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一种钝化进光层的晶体硅双面太阳电池结构
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201820331031.9
申请日
:
2018-03-12
公开(公告)号
:
CN208315557U
公开(公告)日
:
2019-01-01
发明(设计)人
:
高超
周浪
黄海宾
袁吉仁
岳之浩
申请人
:
申请人地址
:
330031 江西省南昌市红谷滩新区学府大道999号
IPC主分类号
:
H01L310216
IPC分类号
:
H01L310352
H01L31068
代理机构
:
南昌新天下专利商标代理有限公司 36115
代理人
:
施秀瑾
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-01-01
授权
授权
2021-02-23
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 31/0216 申请日:20180312 授权公告日:20190101 终止日期:20200312
共 50 条
[1]
一种钝化进光层的晶体硅双面太阳电池结构
[P].
高超
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岳之浩
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中国专利
:CN108336160A
,2018-07-27
[2]
一种钝化进光层的局域发射极晶体硅双面太阳电池结构
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岳之浩
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中国专利
:CN208315579U
,2019-01-01
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一种钝化进光层的局域发射极晶体硅双面太阳电池结构
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,2018-08-24
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,2020-01-21
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中国专利
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,2018-08-28
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一种进光区域无重掺杂层遮挡的异质结晶体硅双面太阳电池结构
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,2019-01-01
[8]
一种进光区域无重掺杂层遮挡的异质结晶体硅双面太阳电池结构
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,2018-07-31
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一种HAC-D晶体硅双面太阳电池结构
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,2018-07-27
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一种异质结晶体硅双面太阳电池结构
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