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一种离子注入设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201620241814.9
申请日
:
2016-03-25
公开(公告)号
:
CN205428882U
公开(公告)日
:
2016-08-03
发明(设计)人
:
王学伟
董英宾
胡双
朱可杰
肖广纯
申请人
:
申请人地址
:
017000 内蒙古自治区鄂尔多斯市东胜区装备制造基地
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
H01L21265
H01J37317
代理机构
:
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274
代理人
:
申健
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-08-03
授权
授权
共 50 条
[1]
离子注入设备和离子注入方法
[P].
李军华
论文数:
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
李军华
;
罗承先
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
罗承先
.
中国专利
:CN121075894A
,2025-12-05
[2]
离子注入设备及离子注入方法
[P].
於成星
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於成星
;
刘小辉
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刘小辉
;
张和
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张和
;
周静兰
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周静兰
;
刘修忠
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刘修忠
;
沈保家
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沈保家
;
李军辉
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李军辉
.
中国专利
:CN112820613B
,2021-05-18
[3]
离子注入设备
[P].
徐义
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徐义
;
张时阁
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张时阁
.
中国专利
:CN209804588U
,2019-12-17
[4]
离子注入设备
[P].
洪俊华
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洪俊华
;
沈培俊
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沈培俊
.
中国专利
:CN203932014U
,2014-11-05
[5]
离子注入设备
[P].
何川
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何川
;
洪俊华
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洪俊华
;
张劲
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张劲
;
陈炯
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陈炯
;
杨勇
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杨勇
.
中国专利
:CN207269015U
,2018-04-24
[6]
离子注入设备
[P].
何川
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何川
;
洪俊华
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洪俊华
;
张劲
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张劲
;
陈炯
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陈炯
;
杨勇
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杨勇
.
中国专利
:CN207458887U
,2018-06-05
[7]
一种离子注入设备
[P].
周波
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周波
;
林锦辉
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林锦辉
;
陈飞
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陈飞
;
郑志雄
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郑志雄
;
吴虎
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吴虎
.
中国专利
:CN210535625U
,2020-05-15
[8]
一种离子注入设备
[P].
周波
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周波
;
林锦辉
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林锦辉
;
陈飞
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陈飞
;
郑志雄
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郑志雄
;
吴虎
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吴虎
.
中国专利
:CN210429730U
,2020-04-28
[9]
一种离子注入设备
[P].
王开军
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王开军
.
中国专利
:CN208538798U
,2019-02-22
[10]
一种离子注入设备
[P].
秦宏志
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秦宏志
;
钱吴全
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钱吴全
;
蔡国辉
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蔡国辉
;
李伟
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李伟
.
中国专利
:CN200986914Y
,2007-12-05
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