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套刻对准标记、套刻误差测量方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010494717.1
申请日：
2020-06-03
公开(公告)号：
CN111522209A
公开(公告)日：
2020-08-11
发明(设计)人：
马卫民
韩春营
刘成成
黄守艳
申请人：
申请人地址：
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼5层
IPC主分类号：
G03F900
IPC分类号：
G03F720
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
王益
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-09-04 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20200603 |
| 2020-08-11 | 公开 | 公开 |