等离子体熔融气化处理装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202120749058.1

申请日：

2021-04-13

公开(公告)号：

CN214619563U

公开(公告)日：

2021-11-05

发明(设计)人：

肖广明胡鹍鹏胡日尚

申请人：

申请人地址：

163712 黑龙江省大庆市让胡路区银亿·阳光城C-6号楼商服06号

IPC主分类号：

F23G5027

IPC分类号：

F23G544

代理机构：

郑州欧凯专利代理事务所(普通合伙) 41166

代理人：

王林华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-05	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体气化熔融炉 [P].

陈庆高 .

中国专利 :CN212537850U ,2021-02-12

[2]

一种等离子体气化熔融炉 [P].

姚敏 ;

单博远 ;

毛丁 ;

周晨霞 ;

何军 .

中国专利 :CN220524116U ,2024-02-23

[3]

一种等离子体气化熔融炉 [P].

陈庆高 .

中国专利 :CN215906153U ,2022-02-25

[4]

一种等离子体气化熔融炉 [P].

单博远 ;

周晨霞 ;

毛丁 ;

姚敏 ;

何军 .

中国专利 :CN220582428U ,2024-03-12

[5]

一种等离子体熔融炉及等离子体熔融处理系统 [P].

张春飞 ;

胡彦弢 ;

张建东 ;

曹腾飞 ;

刘丹 ;

仲伟聪 .

中国专利 :CN217109571U ,2022-08-02

[6]

一种等离子体气化熔融炉处理固体废物装置 [P].

丁恩振 ;

翁坚 ;

黄阳 .

中国专利 :CN209909923U ,2020-01-07

[7]

等离子体氮化处理方法和等离子体氮化处理装置 [P].

高槻浩一 ;

山崎和良 ;

野口秀幸 ;

田村大辅 ;

齐藤智博 .

中国专利 :CN102725834B ,2012-10-10

[8]

等离子体熔融炉 [P].

程明宏 ;

黄吉辉 ;

杨庆安 .

中国专利 :CN205782977U ,2016-12-07

[9]

一种等离子体气化熔融装置 [P].

蒋越丰 ;

束志峰 ;

徐荣 .

中国专利 :CN216764798U ,2022-06-17

[10]

一种处理医疗废物的等离子体气化熔融装置 [P].

周建华 ;

许冬冬 .

中国专利 :CN216175280U ,2022-04-05

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