曝光装置用光照射装置、曝光装置、曝光方法、基板制造方法、掩模和被曝光基板

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180001719.1

申请日：

2011-02-23

公开(公告)号：

CN102449552A

公开(公告)日：

2012-05-09

发明(设计)人：

川岛洋德桥永宙富樫工松坂昌明

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F142 H01L21027

代理机构：

北京泛诚知识产权代理有限公司 11298

代理人：

陈波;高永懿

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-03-23	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101729539643 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2011800017191 变更事项:专利权人变更前:恩斯克科技有限公司变更后:VN系统有限公司变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本神奈川
2012-06-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101271727556 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011800017191 申请日:20110223
2012-05-09	公开	公开
2016-03-23	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101729539644 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2011800017191 登记生效日:20160301 变更事项:专利权人变更前权利人:VN系统有限公司变更后权利人:株式会社V技术变更事项:地址变更前权利人:日本神奈川变更后权利人:日本神奈川
2015-04-08	授权	授权

共 50 条

[1]

曝光装置用光照射装置、曝光装置及曝光方法 [P].

原田智纪 ;

永井新一郎 ;

轻石修作 .

中国专利 :CN101859069A ,2010-10-13

[2]

曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法 [P].

原田智纪 ;

永井新一郎 ;

川岛洋德 ;

山田丰 ;

轻石修作 ;

林慎一郎 .

中国专利 :CN102483587A ,2012-05-30

[3]

曝光用光源、光照射装置、曝光装置及曝光方法 [P].

井上智彦 ;

山下健一 ;

渡边加名 ;

池田富彦 .

中国专利 :CN113917788A ,2022-01-11

[4]

基板曝光装置及基板曝光方法 [P].

田端秀敏 .

中国专利 :CN101025575A ,2007-08-29

[5]

曝光用光源、曝光装置、曝光方法、以及面板基板的制造方法 [P].

森顺一 .

中国专利 :CN101154052B ,2008-04-02

[6]

曝光装置、曝光方法以及基板的制造方法 [P].

伊达宽一 .

日本专利 :CN114077165B ,2025-07-25

[7]

基板制造方法和曝光装置 [P].

尾崎多可雄 ;

江尻铁平 .

中国专利 :CN101213492A ,2008-07-02

[8]

直接曝光装置和基板的曝光方法 [P].

绿川悟 .

中国专利 :CN112859532A ,2021-05-28

[9]

直接曝光装置和基板的曝光方法 [P].

绿川悟 .

日本专利 :CN112859532B ,2025-02-18

[10]

曝光装置和基板的曝光制备方法 [P].

段淼 ;

朱钦富 ;

李林霜 ;

陈黎暄 .

中国专利 :CN117471860A ,2024-01-30

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