直接曝光装置和基板的曝光方法

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专利类型
发明
申请号
CN202011296878.6
申请日
2020-11-18
公开(公告)号
CN112859532A
公开(公告)日
2021-05-28
发明(设计)人
绿川悟
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
代理机构
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
崔成哲;黄纶伟
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
直接曝光装置和基板的曝光方法 [P]. 
绿川悟 .
日本专利 :CN112859532B ,2025-02-18
[2]
基板曝光装置及基板曝光方法 [P]. 
田端秀敏 .
中国专利 :CN101025575A ,2007-08-29
[3]
曝光装置和基板的曝光制备方法 [P]. 
段淼 ;
朱钦富 ;
李林霜 ;
陈黎暄 .
中国专利 :CN117471860A ,2024-01-30
[4]
曝光装置以及曝光方法和布线基板的制造方法 [P]. 
山口欣秀 ;
岸雅一 .
中国专利 :CN1904741A ,2007-01-31
[5]
曝光装置和曝光方法 [P]. 
佐治伸仁 ;
小林健一 ;
原田种真 ;
桐生恭孝 ;
小柳秀昭 ;
今井克喜 ;
长谷川一也 .
中国专利 :CN102854753A ,2013-01-02
[6]
曝光装置和曝光方法 [P]. 
三宅健 ;
高木俊博 .
中国专利 :CN102063020A ,2011-05-18
[7]
曝光装置和曝光方法 [P]. 
长谷川祐哉 ;
奥山隆志 ;
伊达宽一 .
日本专利 :CN120704069A ,2025-09-26
[8]
曝光装置和曝光方法 [P]. 
彭川 .
中国专利 :CN103412466A ,2013-11-27
[9]
曝光方法和曝光装置 [P]. 
藤泽忠仁 ;
浅野昌史 ;
东木达彦 .
中国专利 :CN1416019A ,2003-05-07
[10]
曝光装置和曝光方法 [P]. 
春原英明 .
中国专利 :CN102057331A ,2011-05-11