曝光装置和曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411226478.6

申请日：

2024-09-03

公开(公告)号：

CN120704069A

公开(公告)日：

2025-09-26

发明(设计)人：

长谷川祐哉奥山隆志伊达宽一

申请人：

株式会社ORC制作所

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

王璐;于靖帅

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-26	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光装置和曝光方法 [P].

三宅健 ;

高木俊博 .

中国专利 :CN102063020A ,2011-05-18

[2]

曝光装置和曝光方法 [P].

春原英明 .

中国专利 :CN102057331A ,2011-05-11

[3]

曝光装置和曝光方法 [P].

冈田芳幸 .

中国专利 :CN1722000A ,2006-01-18

[4]

曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法 [P].

奥山隆志 .

日本专利 :CN118689042A ,2024-09-24

[5]

扫描曝光方法和扫描曝光装置 [P].

三宅荣一 .

中国专利 :CN1460897A ,2003-12-10

[6]

曝光装置、曝光方法和物品制造方法 [P].

铃木敢士 ;

八讲学 .

日本专利 :CN113759666B ,2024-09-13

[7]

曝光方法、曝光装置和物品制造方法 [P].

籔伸彦 .

中国专利 :CN105573064A ,2016-05-11

[8]

曝光装置、曝光方法和器件制造方法 [P].

长坂博之 ;

高岩宏明 ;

蛭川茂 .

中国专利 :CN102163004A ,2011-08-24

[9]

曝光装置、曝光方法和物品制造方法 [P].

本岛顺一 .

日本专利 :CN118838124A ,2024-10-25

[10]

曝光装置、曝光方法和物品制造方法 [P].

大阪升 .

中国专利 :CN110286562A ,2019-09-27

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