曝光装置、曝光方法和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110089474.4

申请日：

2004-12-03

公开(公告)号：

CN102163004A

公开(公告)日：

2011-08-24

发明(设计)人：

长坂博之高岩宏明蛭川茂

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

王以平

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-10-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101116512978 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011100894744 申请日:20041203
2011-08-24	公开	公开
2020-11-13	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20041203 授权公告日:20140409 终止日期:20191203
2014-04-09	授权	授权

共 50 条

[1]

曝光方法、曝光装置和器件制造方法 [P].

大和壮一 ;

渡边阳司 .

中国专利 :CN109164682B ,2019-01-08

[2]

曝光装置、曝光方法及器件制造方法 [P].

金谷有步 .

中国专利 :CN102047182B ,2011-05-04

[3]

曝光装置、曝光方法和器件制造方法以及光学部件 [P].

长坂博之 ;

高岩宏明 ;

蛭川茂 ;

星加隆一 ;

石泽均 .

中国专利 :CN1890779A ,2007-01-03

[4]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

正田隆博 ;

金谷有步 ;

长山匡 ;

白石健一 .

中国专利 :CN102360167B ,2012-02-22

[5]

曝光方法和曝光装置、以及器件制造方法 [P].

白石健一 ;

星加隆一 ;

藤原朋春 .

中国专利 :CN101099224A ,2008-01-02

[6]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

正田隆博 ;

金谷有步 ;

长山匡 ;

白石健一 .

中国专利 :CN101510059B ,2009-08-19

[7]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 ;

马込伸贵 .

中国专利 :CN1723539B ,2006-01-18

[8]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

正田隆博 ;

金谷有步 ;

长山匡 ;

白石健一 .

中国专利 :CN1864244A ,2006-11-15

[9]

曝光装置、曝光方法和器件的制造方法 [P].

籔伸彦 .

中国专利 :CN106560745A ,2017-04-12

[10]

曝光装置、曝光方法和电子器件制造方法 [P].

井上英也 ;

白石直正 .

中国专利 :CN101652720A ,2010-02-17

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