曝光装置、曝光方法及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980117085.9

申请日：

2009-05-13

公开(公告)号：

CN102047182B

公开(公告)日：

2011-05-04

发明(设计)人：

金谷有步

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

李辉;黄纶伟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-02-13	授权	授权
2011-06-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101080105723 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801170859 申请日:20090513
2011-05-04	公开	公开

共 50 条

[1]

曝光装置、曝光方法及器件制造方法 [P].

川波健太郎 .

中国专利 :CN106353971A ,2017-01-25

[2]

曝光装置、曝光方法和器件制造方法 [P].

长坂博之 ;

高岩宏明 ;

蛭川茂 .

中国专利 :CN102163004A ,2011-08-24

[3]

曝光方法、曝光装置、图案形成方法及器件制造方法 [P].

木内彻 ;

水谷英夫 .

中国专利 :CN102612669B ,2012-07-25

[4]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN106873316A ,2017-06-20

[5]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 .

中国专利 :CN101354540A ,2009-01-28

[6]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

水谷刚之 .

中国专利 :CN100539019C ,2007-08-15

[7]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

冈田尚也 .

中国专利 :CN101069265A ,2007-11-07

[8]

曝光方法、曝光装置以及器件制造方法 [P].

蛭川茂 .

中国专利 :CN101614966A ,2009-12-30

[9]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 ;

大和壮一 ;

西井康文 .

中国专利 :CN1754250A ,2006-03-29

[10]

曝光装置、曝光方法以及器件制造方法 [P].

西永寿 ;

引间郁雄 ;

丰田光纪 ;

中川正弘 ;

萩原恒幸 ;

水野恭志 ;

北尚宪 ;

谷津修 ;

江村望 .

中国专利 :CN100490064C ,2006-11-22

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