曝光装置、曝光方法和电子器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880011598.7

申请日：

2008-04-07

公开(公告)号：

CN101652720A

公开(公告)日：

2010-02-17

发明(设计)人：

井上英也白石直正

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720 H01L2300

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

王萍;许向华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-02-17	公开	公开
2010-05-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101001718426 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2008800115987 申请日:20080407
2012-04-04	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101315520891 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2008800115987 公开日:20100217

共 50 条

[1]

曝光装置、曝光方法及电子器件的制造方法 [P].

加藤正纪 ;

水野仁 ;

水野恭志 .

日本专利 :CN117581162A ,2024-02-20

[2]

曝光方法和电子器件制造方法 [P].

木内彻 ;

白石直正 ;

井上英也 .

中国专利 :CN101681118A ,2010-03-24

[3]

曝光方法及电子器件制造方法 [P].

白石直正 ;

井上英也 .

中国专利 :CN101652719A ,2010-02-17

[4]

曝光装置、曝光方法和器件制造方法 [P].

长坂博之 ;

高岩宏明 ;

蛭川茂 .

中国专利 :CN102163004A ,2011-08-24

[5]

曝光方法、曝光装置和器件制造方法 [P].

大和壮一 ;

渡边阳司 .

中国专利 :CN109164682B ,2019-01-08

[6]

曝光装置和器件制造方法 [P].

根井正洋 ;

小林直行 ;

千叶洋 ;

蛭川茂 .

中国专利 :CN100429748C ,2006-01-18

[7]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

正田隆博 ;

金谷有步 ;

长山匡 ;

白石健一 .

中国专利 :CN102360167B ,2012-02-22

[8]

曝光方法和曝光装置、以及器件制造方法 [P].

白石健一 ;

星加隆一 ;

藤原朋春 .

中国专利 :CN101099224A ,2008-01-02

[9]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

安田雅彦 ;

正田隆博 ;

金谷有步 ;

长山匡 ;

白石健一 .

中国专利 :CN101510059B ,2009-08-19

[10]

曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 [P].

长坂博之 ;

马込伸贵 .

中国专利 :CN1723539B ,2006-01-18

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