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曝光方法、曝光装置和器件制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201811146185.1
申请日：
2012-12-26
公开(公告)号：
CN109164682B
公开(公告)日：
2019-01-08
发明(设计)人：
大和壮一
渡边阳司
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京市金杜律师事务所 11256
代理人：
陈伟;王娟娟
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-01-15 | 授权 | 授权 |
| 2019-02-01 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20121226 |
| 2019-01-08 | 公开 | 公开 |