曝光装置和曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510088498.2

申请日：

2004-03-12

公开(公告)号：

CN1722000A

公开(公告)日：

2006-01-18

发明(设计)人：

冈田芳幸

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F7207 H01L21027

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王永刚

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-01-18	公开	公开
2006-03-08	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-02-24	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回

共 50 条

[1]

曝光装置和曝光方法 [P].

三宅健 ;

高木俊博 .

中国专利 :CN102063020A ,2011-05-18

[2]

曝光装置和曝光方法 [P].

长谷川祐哉 ;

奥山隆志 ;

伊达宽一 .

日本专利 :CN120704069A ,2025-09-26

[3]

曝光装置和曝光方法 [P].

春原英明 .

中国专利 :CN102057331A ,2011-05-11

[4]

曝光装置、曝光方法和产品的制造方法 [P].

住吉雄平 .

中国专利 :CN115509091A ,2022-12-23

[5]

曝光方法和曝光装置 [P].

藤泽忠仁 ;

浅野昌史 ;

东木达彦 .

中国专利 :CN1416019A ,2003-05-07

[6]

扫描曝光方法和扫描曝光装置 [P].

三宅荣一 .

中国专利 :CN1460897A ,2003-12-10

[7]

曝光装置用曝光头、曝光装置以及曝光方法 [P].

奥山隆志 .

日本专利 :CN118689042A ,2024-09-24

[8]

曝光装置、曝光方法和物品制造方法 [P].

铃木敢士 ;

八讲学 .

日本专利 :CN113759666B ,2024-09-13

[9]

曝光方法、曝光装置和物品制造方法 [P].

籔伸彦 .

中国专利 :CN105573064A ,2016-05-11

[10]

曝光装置、曝光方法和器件制造方法 [P].

长坂博之 ;

高岩宏明 ;

蛭川茂 .

中国专利 :CN102163004A ,2011-08-24

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