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蚀刻液组合物及利用其的显示装置的制造方法
被引:0
申请号
:
CN202210579448.8
申请日
:
2022-05-26
公开(公告)号
:
CN115404482A
公开(公告)日
:
2022-11-29
发明(设计)人
:
朴种熙
金炯式
李相赫
金龙会
金荣光
姜东浒
申贤哲
金成太
李东勋
李民惠
李秉洙
郑棊水
申请人
:
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
C23F130
IPC分类号
:
C23F144
H01L213213
代理机构
:
北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641
代理人
:
刘慧红
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-11-29
公开
公开
共 50 条
[1]
蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法
[P].
金范洙
论文数:
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金范洙
;
尹暎晋
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尹暎晋
;
赵现洙
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赵现洙
;
鞠仁说
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鞠仁说
;
李昔准
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李昔准
;
李恩远
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李恩远
.
中国专利
:CN114381733A
,2022-04-22
[2]
蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法
[P].
金范洙
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机构:
东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
金范洙
;
尹暎晋
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机构:
东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
尹暎晋
;
赵现洙
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东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
赵现洙
;
鞠仁说
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东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
鞠仁说
;
李昔准
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东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
李昔准
;
李恩远
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机构:
东友精细化工有限公司
东友精细化工有限公司
李恩远
.
韩国专利
:CN114381733B
,2024-11-08
[3]
蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法
[P].
张晌勋
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张晌勋
;
南基龙
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南基龙
;
沈庆辅
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沈庆辅
;
李承洙
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李承洙
;
朴英哲
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朴英哲
.
中国专利
:CN108385109B
,2018-08-10
[4]
蚀刻液组合物及利用其的蚀刻方法以及制造显示装置或含IGZO半导体的方法
[P].
汤慧仪
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汤慧仪
;
朱翊祯
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朱翊祯
;
林诗尧
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林诗尧
;
陈颐丞
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陈颐丞
.
中国专利
:CN110396693B
,2019-11-01
[5]
蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示装置的方法
[P].
朴种熙
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朴种熙
;
金真锡
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金真锡
;
李凤源
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李凤源
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金基泰
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金基泰
;
金奎佈
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金奎佈
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申贤哲
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申贤哲
;
李大雨
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李大雨
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李秉雄
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李秉雄
;
李相赫
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李相赫
.
中国专利
:CN109811344B
,2019-05-28
[6]
含钼金属膜的蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法
[P].
金镇成
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金镇成
;
金炼卓
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金炼卓
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梁圭亨
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梁圭亨
.
中国专利
:CN107287593A
,2017-10-24
[7]
含银薄膜的蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法
[P].
权五柄
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权五柄
;
张晌勋
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张晌勋
;
崔亨燮
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崔亨燮
.
中国专利
:CN110284140A
,2019-09-27
[8]
蚀刻液组合物和显示装置用阵列基板的制造方法
[P].
李恩远
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李恩远
;
朴升煜
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朴升煜
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田玹守
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田玹守
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梁承宰
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梁承宰
.
中国专利
:CN107988598A
,2018-05-04
[9]
蚀刻液组合物、多层膜的蚀刻方法和显示装置的制造方法
[P].
全重翼
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全重翼
;
印致成
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印致成
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李美顺
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李美顺
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申铉亿
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申铉亿
;
裴俊佑
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裴俊佑
.
中国专利
:CN106795633A
,2017-05-31
[10]
含银薄膜蚀刻液组合物、利用其制造的显示装置用阵列基板及其制造方法
[P].
张晌勋
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张晌勋
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权五柄
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权五柄
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崔亨燮
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崔亨燮
.
中国专利
:CN110359049A
,2019-10-22
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