蚀刻液组合物、多层膜的蚀刻方法和显示装置的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580054917.2

申请日：

2015-10-07

公开(公告)号：

CN106795633A

公开(公告)日：

2017-05-31

发明(设计)人：

全重翼印致成李美顺申铉亿裴俊佑

申请人：

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

C23F116

IPC分类号：

C23F130 C23F120

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;尹明花

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-06-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101729319725 IPC(主分类):C23F 1/16 专利申请号:2015800549172 申请日:20151007
2017-05-31	公开	公开
2021-02-05	授权	授权

共 50 条

[1]

显示装置用阵列基板制造方法、蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

梁圭亨 ;

金童基 ;

金炼卓 ;

权五柄 .

中国专利 :CN106467969A ,2017-03-01

[2]

蚀刻液组合物、蚀刻方法和基体的制造方法 [P].

野口裕太 ;

缝田祐介 .

日本专利 :CN120981606A ,2025-11-18

[3]

多层膜用蚀刻液组合物、蚀刻方法及阵列基板的制造方法 [P].

刘仁浩 ;

金范洙 ;

南基龙 .

中国专利 :CN108220963A ,2018-06-29

[4]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法 [P].

白滨祐二 ;

着能真 .

中国专利 :CN111094627B ,2020-05-01

[5]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

石崎隼郎 ;

大宫大辅 .

中国专利 :CN104233299B ,2014-12-24

[6]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

勇谦司 ;

木村真弓 ;

田湖次广 .

中国专利 :CN103125017B ,2013-05-29

[7]

蚀刻液组合物及铜钼膜层的蚀刻方法 [P].

吴豪旭 .

中国专利 :CN111074278A ,2020-04-28

[8]

蚀刻液组合物及利用其的显示装置的制造方法 [P].

朴种熙 ;

金炯式 ;

李相赫 ;

金龙会 ;

金荣光 ;

姜东浒 ;

申贤哲 ;

金成太 ;

李东勋 ;

李民惠 ;

李秉洙 ;

郑棊水 .

中国专利 :CN115404482A ,2022-11-29

[9]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

渊上真一郎 .

中国专利 :CN107690488A ,2018-02-13

[10]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

鬼头佑典 ;

渊上真一郎 ;

小佐野善秀 .

中国专利 :CN106460197A ,2017-02-22

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