多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680001594.5

申请日：

2016-03-15

公开(公告)号：

CN106460197A

公开(公告)日：

2017-02-22

发明(设计)人：

着能真鬼头佑典渊上真一郎小佐野善秀

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

C23F118

IPC分类号：

C23F126 H01L21308

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-22	授权	授权
2017-02-22	公开	公开
2017-03-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101708377587 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:2016800015945 申请日:20160315

共 50 条

[1]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

小佐野善秀 ;

渊上真一郎 .

中国专利 :CN105765107A ,2016-07-13

[2]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

渊上真一郎 .

中国专利 :CN107690488A ,2018-02-13

[3]

包含钼和铜的多层膜用蚀刻液、蚀刻浓缩液以及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

渊上真一郎 ;

鬼头佑典 ;

小佐野善秀 .

中国专利 :CN106255777A ,2016-12-21

[4]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法 [P].

白滨祐二 ;

着能真 .

中国专利 :CN111094627B ,2020-05-01

[5]

蚀刻液和蚀刻方法 [P].

吴豪旭 .

中国专利 :CN113529085A ,2021-10-22

[6]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

黄若涵 ;

吴光耀 ;

黄宜琤 ;

罗致远 ;

卢厚德 .

中国专利 :CN104611700A ,2015-05-13

[7]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

勇谦司 ;

木村真弓 ;

田湖次广 .

中国专利 :CN103125017B ,2013-05-29

[8]

蚀刻液及蚀刻方法 [P].

荻野悠贵 ;

东嶋真美 ;

林崎将大 ;

王谷稔 .

中国专利 :CN107208280B ,2017-09-26

[9]

多层膜用蚀刻液组合物、蚀刻方法及阵列基板的制造方法 [P].

刘仁浩 ;

金范洙 ;

南基龙 .

中国专利 :CN108220963A ,2018-06-29

[10]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

青木珠美 ;

正元祐次 ;

斋尾佳秀 ;

石崎隼郎 .

中国专利 :CN109844910A ,2019-06-04

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