包含钼和铜的多层膜用蚀刻液、蚀刻浓缩液以及蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580021009.3

申请日：

2015-04-24

公开(公告)号：

CN106255777A

公开(公告)日：

2016-12-21

发明(设计)人：

着能真渊上真一郎鬼头佑典小佐野善秀

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

C23F118

IPC分类号：

C23F126

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-12-21	公开	公开
2017-01-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101697429153 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:2015800210093 申请日:20150424
2018-03-20	授权	授权

共 50 条

[1]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

鬼头佑典 ;

渊上真一郎 ;

小佐野善秀 .

中国专利 :CN106460197A ,2017-02-22

[2]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

小佐野善秀 ;

渊上真一郎 .

中国专利 :CN105765107A ,2016-07-13

[3]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

渊上真一郎 .

中国专利 :CN107690488A ,2018-02-13

[4]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法 [P].

白滨祐二 ;

着能真 .

中国专利 :CN111094627B ,2020-05-01

[5]

铜/钼系多层薄膜用蚀刻液 [P].

冈部哲 ;

安谷屋智幸 ;

丸山岳人 .

中国专利 :CN103717787A ,2014-04-09

[6]

铜的蚀刻液以及蚀刻方法 [P].

齐藤范之 ;

香月隆伸 ;

石川诚 ;

青木真澄 .

中国专利 :CN101098989A ,2008-01-02

[7]

包含铜层及钼层的多层薄膜用蚀刻液 [P].

冈部哲 ;

成田和代 ;

松原将英 ;

安谷屋智幸 ;

丸山岳人 .

中国专利 :CN102762770A ,2012-10-31

[8]

铜厚膜用蚀刻液 [P].

白滨祐二 ;

着能真 .

日本专利 :CN118223023A ,2024-06-21

[9]

铜厚膜用蚀刻液 [P].

白滨祐二 ;

着能真 .

日本专利 :CN118223024A ,2024-06-21

[10]

铜厚膜用蚀刻液 [P].

白滨祐二 ;

着能真 .

中国专利 :CN109415818A ,2019-03-01

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