铜的蚀刻液以及蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580046553.X

申请日：

2005-03-29

公开(公告)号：

CN101098989A

公开(公告)日：

2008-01-02

发明(设计)人：

齐藤范之香月隆伸石川诚青木真澄

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C23F118

IPC分类号：

C09K1306 H01L21308

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

丁香兰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-01-02	公开	公开
2008-02-27	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-08-25	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101006990367 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:200580046553X 公开日:20080102

共 50 条

[1]

包含钼和铜的多层膜用蚀刻液、蚀刻浓缩液以及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

渊上真一郎 ;

鬼头佑典 ;

小佐野善秀 .

中国专利 :CN106255777A ,2016-12-21

[2]

铜蚀刻液、铜蚀刻液的制备方法及其应用 [P].

郭世豪 ;

王钦 ;

张丁山 ;

虞成城 .

中国专利 :CN118600426A ,2024-09-06

[3]

用于铜或铜合金的蚀刻液、蚀刻前处理液及蚀刻方法 [P].

加藤真 ;

丰田裕二 ;

中川邦弘 ;

石田麻里子 ;

金田安生 .

中国专利 :CN101910468B ,2010-12-08

[4]

铜蚀刻液 [P].

米田拓也 ;

石田哲司 ;

山本久光 ;

嘉藤一成 ;

清水良祐 .

中国专利 :CN115433939A ,2022-12-06

[5]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法 [P].

白滨祐二 ;

着能真 .

中国专利 :CN111094627B ,2020-05-01

[6]

蚀刻液和铜/钼金属线的蚀刻方法 [P].

赵芬利 .

中国专利 :CN113106454A ,2021-07-13

[7]

铜或铜合金用的蚀刻液、蚀刻方法及蚀刻液的再生管理方法 [P].

山根宪吾 ;

加藤真 ;

石田麻里子 .

中国专利 :CN102257180A ,2011-11-23

[8]

蚀刻液和蚀刻方法 [P].

吴豪旭 .

中国专利 :CN113529085A ,2021-10-22

[9]

铜蚀刻液添加剂以及铜蚀刻液的生成方法 [P].

武岳 ;

周佑联 ;

周志超 .

中国专利 :CN105862040A ,2016-08-17

[10]

蚀刻液组成物及其蚀刻方法 [P].

陈政裕 ;

陈怡静 ;

张景棠 .

中国专利 :CN117467442A ,2024-01-30

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