铜或铜合金用的蚀刻液、蚀刻方法及蚀刻液的再生管理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980151047.5

申请日：

2009-12-04

公开(公告)号：

CN102257180A

公开(公告)日：

2011-11-23

发明(设计)人：

山根宪吾加藤真石田麻里子

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23F118

IPC分类号：

C23F146 G01N2127

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

孙秀武;高旭轶

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-01-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101165557567 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:2009801510475 申请日:20091204
2011-11-23	公开	公开
2017-01-18	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101697799736 IPC(主分类):C23F 1/18 专利号:ZL2009801510475 申请日:20091204 授权公告日:20140507 终止日期:20151204
2014-05-07	授权	授权

共 50 条

[1]

用于铜或铜合金的蚀刻液、蚀刻前处理液及蚀刻方法 [P].

加藤真 ;

丰田裕二 ;

中川邦弘 ;

石田麻里子 ;

金田安生 .

中国专利 :CN101910468B ,2010-12-08

[2]

铜及铜合金的蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

高桥　秀树 .

中国专利 :CN102995021A ,2013-03-27

[3]

蚀刻液的再生方法，蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

伊豆田信彦 ;

渡津春留 .

中国专利 :CN101303976A ,2008-11-12

[4]

铜的蚀刻液以及蚀刻方法 [P].

齐藤范之 ;

香月隆伸 ;

石川诚 ;

青木真澄 .

中国专利 :CN101098989A ,2008-01-02

[5]

蚀刻液的再生方法、蚀刻方法和蚀刻系统 [P].

伊豆田信彦 ;

村田贡 .

中国专利 :CN100336182C ,2004-05-12

[6]

再生酸性蚀刻液、酸性蚀刻液及酸性蚀刻液再生方法 [P].

张伟奇 ;

李再强 ;

黄文涛 ;

梁民 .

中国专利 :CN113957440A ,2022-01-21

[7]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

山口隆雄 ;

石川典夫 .

中国专利 :CN103046050A ,2013-04-17

[8]

蚀刻液及蚀刻方法 [P].

荻野悠贵 ;

东嶋真美 ;

林崎将大 ;

王谷稔 .

中国专利 :CN107208280B ,2017-09-26

[9]

一种钛铜合金蚀刻液及蚀刻方法 [P].

邹凯然 ;

潘丽 ;

曹广盛 .

中国专利 :CN114381736A ,2022-04-22

[10]

增大蚀刻液蚀刻用量的铜/钼合金膜的蚀刻方法 [P].

申孝燮 ;

丁镇培 ;

金世训 ;

李恩庆 .

中国专利 :CN103814432A ,2014-05-21

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