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增大蚀刻液蚀刻用量的铜/钼合金膜的蚀刻方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201280040139.8
申请日
:
2012-08-09
公开(公告)号
:
CN103814432A
公开(公告)日
:
2014-05-21
发明(设计)人
:
申孝燮
丁镇培
金世训
李恩庆
申请人
:
申请人地址
:
韩国首尔市江南区奉恩寺路151号
IPC主分类号
:
H01L213063
IPC分类号
:
H01L29786
代理机构
:
深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217
代理人
:
蔡晓红
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-05-11
授权
授权
2014-06-25
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101583096951 IPC(主分类):H01L 21/3063 专利申请号:2012800401398 申请日:20120809
2014-05-21
公开
公开
共 50 条
[1]
铜钼合金膜的蚀刻液组合物
[P].
申孝燮
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申孝燮
;
金世训
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金世训
;
李恩庆
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李恩庆
;
丁镇培
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丁镇培
;
李相大
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李相大
;
韩斗锡
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韩斗锡
.
中国专利
:CN103890232A
,2014-06-25
[2]
铜钼合金膜的蚀刻液组合物
[P].
李恩庆
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李恩庆
;
金世训
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金世训
;
申孝燮
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申孝燮
;
李宝妍
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李宝妍
.
中国专利
:CN103668208B
,2014-03-26
[3]
一种强化钼铌合金蚀刻的铜蚀刻液及蚀刻方法
[P].
李涛
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江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
李涛
;
章佳寅
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江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
章佳寅
;
徐杨
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江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
徐杨
;
沈夏军
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江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
沈夏军
;
顾梦佳
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江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
顾梦佳
;
任奕宇
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江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
任奕宇
;
朱龙
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机构:
江阴江化微电子材料股份有限公司
江阴江化微电子材料股份有限公司
朱龙
.
中国专利
:CN117737733A
,2024-03-22
[4]
用于铜/钼膜层的金属蚀刻液及其蚀刻方法
[P].
武岳
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武岳
;
雍玮娜
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雍玮娜
.
中国专利
:CN106498398A
,2017-03-15
[5]
蚀刻液组合物及铜钼膜层的蚀刻方法
[P].
吴豪旭
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吴豪旭
.
中国专利
:CN111074278A
,2020-04-28
[6]
一种铜钼合金的蚀刻液组合物及蚀刻方法
[P].
邵勇
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邵勇
;
徐杨
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徐杨
;
朱永刚
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朱永刚
;
顾维忠
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顾维忠
;
彭聪
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彭聪
;
胡生望
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胡生望
.
中国专利
:CN113026018B
,2021-06-25
[7]
铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物
[P].
申孝燮
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申孝燮
;
李恩庆
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李恩庆
;
金世训
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金世训
.
中国专利
:CN103924242B
,2014-07-16
[8]
铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物
[P].
金世训
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金世训
;
李恩庆
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李恩庆
;
李宝妍
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李宝妍
;
申孝燮
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申孝燮
.
中国专利
:CN103924244A
,2014-07-16
[9]
铜/钼膜或铜/钼合金膜的蚀刻液组合物
[P].
金世训
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金世训
;
李恩庆
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李恩庆
;
李宝妍
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李宝妍
;
申孝燮
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申孝燮
.
中国专利
:CN107227463A
,2017-10-03
[10]
包含钼和铜的多层膜用蚀刻液、蚀刻浓缩液以及蚀刻方法
[P].
着能真
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着能真
;
渊上真一郎
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渊上真一郎
;
鬼头佑典
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鬼头佑典
;
小佐野善秀
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小佐野善秀
.
中国专利
:CN106255777A
,2016-12-21
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