铜及铜合金的蚀刻液组合物及蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210330502.1

申请日：

2012-09-07

公开(公告)号：

CN102995021A

公开(公告)日：

2013-03-27

发明(设计)人：

高桥　秀树

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23F118

IPC分类号：

H01L213213

代理机构：

北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270

代理人：

孟桂超;张颖玲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-07-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101583787788 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:2012103305021 申请日:20120907
2013-03-27	公开	公开
2017-09-15	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101759156576 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:2012103305021 申请公布日:20130327

共 50 条

[1]

用于铜或铜合金的蚀刻液、蚀刻前处理液及蚀刻方法 [P].

加藤真 ;

丰田裕二 ;

中川邦弘 ;

石田麻里子 ;

金田安生 .

中国专利 :CN101910468B ,2010-12-08

[2]

含有铜层和/或铜合金层的金属膜用蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法 [P].

黑岩健次 .

中国专利 :CN103060810A ,2013-04-24

[3]

铜或铜合金用的蚀刻液、蚀刻方法及蚀刻液的再生管理方法 [P].

山根宪吾 ;

加藤真 ;

石田麻里子 .

中国专利 :CN102257180A ,2011-11-23

[4]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

河野良 ;

清水寿和 .

中国专利 :CN105297022A ,2016-02-03

[5]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

山口隆雄 ;

石川典夫 .

中国专利 :CN103046050A ,2013-04-17

[6]

一种钛铜合金蚀刻液及蚀刻方法 [P].

邹凯然 ;

潘丽 ;

曹广盛 .

中国专利 :CN114381736A ,2022-04-22

[7]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

河野良 ;

大和田拓央 .

中国专利 :CN109328394A ,2019-02-12

[8]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

黄若涵 ;

吴光耀 ;

黄宜琤 ;

罗致远 ;

卢厚德 .

中国专利 :CN104611700A ,2015-05-13

[9]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

勇谦司 ;

木村真弓 ;

田湖次广 .

中国专利 :CN103125017B ,2013-05-29

[10]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

罗致远 ;

黄若涵 ;

吴光耀 ;

黄宜琤 ;

卢厚德 .

中国专利 :CN104611701A ,2015-05-13

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