蚀刻液组合物及蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410571102.9

申请日：

2014-10-23

公开(公告)号：

CN104611700A

公开(公告)日：

2015-05-13

发明(设计)人：

黄若涵吴光耀黄宜琤罗致远卢厚德

申请人：

申请人地址：

中国台湾台中市

IPC主分类号：

C23F118

IPC分类号：

C23F130

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

秦剑

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-11	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23F 1/18 申请公布日:20150513
2015-06-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101612414945 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:2014105711029 申请日:20141023
2015-05-13	公开	公开

共 50 条

[1]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

勇谦司 ;

木村真弓 ;

田湖次广 .

中国专利 :CN103125017B ,2013-05-29

[2]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

罗致远 ;

黄若涵 ;

吴光耀 ;

黄宜琤 ;

卢厚德 .

中国专利 :CN104611701A ,2015-05-13

[3]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

河野良 ;

清水寿和 .

中国专利 :CN105297022A ,2016-02-03

[4]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

青木珠美 ;

正元祐次 ;

斋尾佳秀 ;

石崎隼郎 .

中国专利 :CN109844910A ,2019-06-04

[5]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

大宫大辅 .

中国专利 :CN110383430A ,2019-10-25

[6]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

大宫大辅 ;

青木珠美 .

中国专利 :CN108780747B ,2018-11-09

[7]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

石崎隼郎 ;

大宫大辅 .

中国专利 :CN104233299B ,2014-12-24

[8]

蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法 [P].

廖本男 ;

廖伯轩 ;

张善钧 ;

李盈壕 ;

吕志鹏 .

中国专利 :CN105887089B ,2016-08-24

[9]

蚀刻液组合物及应用它的蚀刻方法 [P].

吴光耀 ;

汤慧怡 ;

陈雨农 .

中国专利 :CN106929853A ,2017-07-07

[10]

蚀刻液组合物及应用它的蚀刻方法 [P].

吴光耀 ;

汤慧怡 ;

陈雨农 .

中国专利 :CN115305472A ,2022-11-08

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