多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380081154.1

申请日：

2013-11-25

公开(公告)号：

CN105765107A

公开(公告)日：

2016-07-13

发明(设计)人：

着能真小佐野善秀渊上真一郎

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

C23F118

IPC分类号：

C23F126

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101673491339 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:2013800811541 申请日:20131125
2017-12-19	授权	授权
2016-07-13	公开	公开

共 50 条

[1]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

鬼头佑典 ;

渊上真一郎 ;

小佐野善秀 .

中国专利 :CN106460197A ,2017-02-22

[2]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

渊上真一郎 .

中国专利 :CN107690488A ,2018-02-13

[3]

包含钼和铜的多层膜用蚀刻液、蚀刻浓缩液以及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

渊上真一郎 ;

鬼头佑典 ;

小佐野善秀 .

中国专利 :CN106255777A ,2016-12-21

[4]

多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法 [P].

白滨祐二 ;

着能真 .

中国专利 :CN111094627B ,2020-05-01

[5]

蚀刻液和蚀刻方法 [P].

吴豪旭 .

中国专利 :CN113529085A ,2021-10-22

[6]

蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

黄若涵 ;

吴光耀 ;

黄宜琤 ;

罗致远 ;

卢厚德 .

中国专利 :CN104611700A ,2015-05-13

[7]

蚀刻液及蚀刻方法 [P].

荻野悠贵 ;

东嶋真美 ;

林崎将大 ;

王谷稔 .

中国专利 :CN107208280B ,2017-09-26

[8]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

青木珠美 ;

正元祐次 ;

斋尾佳秀 ;

石崎隼郎 .

中国专利 :CN109844910A ,2019-06-04

[9]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

大宫大辅 .

中国专利 :CN110383430A ,2019-10-25

[10]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

大宫大辅 ;

青木珠美 .

中国专利 :CN108780747B ,2018-11-09

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