包含铜层及钼层的多层薄膜用蚀刻液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180009674.2

申请日：

2011-02-15

公开(公告)号：

CN102762770A

公开(公告)日：

2012-10-31

发明(设计)人：

冈部哲成田和代松原将英安谷屋智幸丸山岳人

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23F118

IPC分类号：

C23F130 H01L21308 H01L213205 H01L213213 H01L2352

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-07-16	授权	授权
2013-03-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101412537354 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:2011800096742 申请日:20110215
2012-10-31	公开	公开

共 50 条

[1]

铜/钼系多层薄膜用蚀刻液 [P].

冈部哲 ;

安谷屋智幸 ;

丸山岳人 .

中国专利 :CN103717787A ,2014-04-09

[2]

用于包含铜层和钼层的多层结构膜的蚀刻液 [P].

玉井聪 ;

冈部哲 ;

松原将英 ;

夕部邦夫 .

中国专利 :CN102985596A ,2013-03-20

[3]

用于蚀刻由铜层及钼层构成的金属层的蚀刻液及其应用 [P].

王毅明 ;

邵振 .

中国专利 :CN110219003B ,2019-09-10

[4]

包含钼和铜的多层膜用蚀刻液、蚀刻浓缩液以及蚀刻方法 [P].

着能真 ;

渊上真一郎 ;

鬼头佑典 ;

小佐野善秀 .

中国专利 :CN106255777A ,2016-12-21

[5]

蚀刻液组合物及铜钼膜层的蚀刻方法 [P].

吴豪旭 .

中国专利 :CN111074278A ,2020-04-28

[6]

铜／钛系多层薄膜用蚀刻液 [P].

安谷屋智幸 ;

冈部哲 ;

后藤敏之 ;

丸山岳人 ;

小林和树 ;

田中惠一 ;

中村涉 ;

纪藤贤一 ;

田中哲宪 .

中国专利 :CN102834547A ,2012-12-19

[7]

用于铜/钼膜层的蚀刻液及其应用 [P].

邓金全 ;

李嘉 ;

赵芬利 .

中国专利 :CN108004550A ,2018-05-08

[8]

用于铜/钼膜层的金属蚀刻液及其蚀刻方法 [P].

武岳 ;

雍玮娜 .

中国专利 :CN106498398A ,2017-03-15

[9]

用于铜钼膜层的蚀刻剂与铜钼膜层的蚀刻方法 [P].

张月红 ;

何毅烽 .

中国专利 :CN112522705A ,2021-03-19

[10]

铜/钼膜层用蚀刻液组合物 [P].

赵芬利 .

中国专利 :CN109023372A ,2018-12-18

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