用于铜或铜合金的蚀刻溶液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610560710.9

申请日：

2011-08-16

公开(公告)号：

CN106435587B

公开(公告)日：

2017-02-22

发明(设计)人：

吉田裕小路祐吉

申请人：

申请人地址：

美国马萨诸塞州

IPC主分类号：

C23F118

IPC分类号：

C23F102

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287

代理人：

齐杨

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-02-22	公开	公开
2019-10-01	授权	授权
2017-03-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101708562793 IPC(主分类):C23F 1/18 专利申请号:2016105607109 申请日:20110816

共 50 条

[1]

用于铜或铜合金的蚀刻溶液 [P].

吉田裕 ;

小路祐吉 .

中国专利 :CN103080382A ,2013-05-01

[2]

铜或铜合金的蚀刻溶液以及使用该溶液的电子基板的制法 [P].

户田健次 .

中国专利 :CN1570212A ,2005-01-26

[3]

铜和铜合金表面用蚀刻溶液 [P].

法比安·米哈利克 ;

诺贝特·吕措 ;

加布里埃拉·施密特 ;

约瑟夫·盖达 ;

托马斯·许尔斯曼 .

中国专利 :CN108431301A ,2018-08-21

[4]

再生用于蚀刻或酸蚀铜或铜合金的含铁蚀刻溶液的方法和进行所述方法的装置 [P].

凯岩·马特耶特 ;

万·兰木扑禾 .

中国专利 :CN100413999C ,2006-07-12

[5]

用于铜或铜合金的蚀刻液、蚀刻前处理液及蚀刻方法 [P].

加藤真 ;

丰田裕二 ;

中川邦弘 ;

石田麻里子 ;

金田安生 .

中国专利 :CN101910468B ,2010-12-08

[6]

蚀刻铜或者铜合金的方法 [P].

洪中山 ;

何其旸 .

中国专利 :CN101195917B ,2008-06-11

[7]

用于蚀刻铜和铜合金的水性组合物 [P].

诺尔伯特·露特邹 ;

盖布莱尔·史其米特 ;

迪尔克·特夫斯 .

中国专利 :CN104870689B ,2015-08-26

[8]

用于蚀刻铜和铜合金的水性组合物 [P].

N.吕措 ;

M.托姆斯 ;

A.埃克斯纳 ;

M.克洛皮施 .

中国专利 :CN103842554A ,2014-06-04

[9]

铜及铜合金的微蚀刻剂 [P].

牧善朗 ;

中川登志子 ;

山田康史 ;

春田孝史 ;

有村摩纪 .

中国专利 :CN1147025A ,1997-04-09

[10]

用于纳米蚀刻铜和铜合金表面的方法 [P].

曺元珍 ;

F·米哈利克 ;

肖停 ;

韩山卓 ;

林钊文 .

德国专利 :CN119213170A ,2024-12-27

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