蚀刻铜或者铜合金的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610119363.2

申请日：

2006-12-08

公开(公告)号：

CN101195917B

公开(公告)日：

2008-06-11

发明(设计)人：

洪中山何其旸

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

C23F146

IPC分类号：

C23F114 H01L213213

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

逯长明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-08-06	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-03-23	授权	授权
2008-06-11	公开	公开
2019-11-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23F 1/46 申请日:20061208 授权公告日:20110323 终止日期:20181208

共 50 条

[1]

铜及铜合金的微蚀刻剂 [P].

牧善朗 ;

中川登志子 ;

山田康史 ;

春田孝史 ;

有村摩纪 .

中国专利 :CN1147025A ,1997-04-09

[2]

用于铜或铜合金的蚀刻溶液 [P].

吉田裕 ;

小路祐吉 .

中国专利 :CN106435587B ,2017-02-22

[3]

用于铜或铜合金的蚀刻溶液 [P].

吉田裕 ;

小路祐吉 .

中国专利 :CN103080382A ,2013-05-01

[4]

铜及铜合金的蚀刻液组合物及蚀刻方法 [P].

高桥　秀树 .

中国专利 :CN102995021A ,2013-03-27

[5]

可循环使用的铜和铜合金微蚀刻剂 [P].

章晓冬 .

中国专利 :CN101338435A ,2009-01-07

[6]

用于铜或铜合金的蚀刻液、蚀刻前处理液及蚀刻方法 [P].

加藤真 ;

丰田裕二 ;

中川邦弘 ;

石田麻里子 ;

金田安生 .

中国专利 :CN101910468B ,2010-12-08

[7]

铜或铜合金用的蚀刻液、蚀刻方法及蚀刻液的再生管理方法 [P].

山根宪吾 ;

加藤真 ;

石田麻里子 .

中国专利 :CN102257180A ,2011-11-23

[8]

用于蚀刻铜和铜合金的水性组合物 [P].

诺尔伯特·露特邹 ;

盖布莱尔·史其米特 ;

迪尔克·特夫斯 .

中国专利 :CN104870689B ,2015-08-26

[9]

用于蚀刻铜和铜合金的水性组合物 [P].

N.吕措 ;

M.托姆斯 ;

A.埃克斯纳 ;

M.克洛皮施 .

中国专利 :CN103842554A ,2014-06-04

[10]

在金属铜或者铜合金基材表面获得超双疏性质的方法 [P].

郗金明 ;

孟海凤 ;

江雷 .

中国专利 :CN101492815A ,2009-07-29

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