不同光刻机之间的套刻匹配方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910033967.2

申请日：

2019-01-15

公开(公告)号：

CN111435219A

公开(公告)日：

2020-07-21

发明(设计)人：

王亚超李玉华

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

G03F720 G03F900

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

邓云鹏

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-21	公开	公开
2020-08-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20190115

共 50 条

[1]

不同光刻机之间的套刻匹配方法 [P].

李玉华 ;

王亚超 .

中国专利 :CN106154758A ,2016-11-23

[2]

不同倍率光刻机之间的套刻精度的测量方法 [P].

陈福成 .

中国专利 :CN101644898B ,2010-02-10

[3]

用于不同倍率光刻机的套刻标记 [P].

祝嘉泳 ;

王大地 ;

吴雷雷 ;

吴长春 ;

周一峰 ;

钱永学 ;

赖亚明 ;

黄鑫 .

中国专利 :CN217060757U ,2022-07-26

[4]

光刻机匹配方法 [P].

李思坤 ;

茅言杰 ;

王向朝 ;

杨朝兴 .

中国专利 :CN108170006A ,2018-06-15

[5]

光刻机匹配方法 [P].

茅言杰 ;

李思坤 ;

王向朝 .

中国专利 :CN110320764A ,2019-10-11

[6]

光刻机匹配方法 [P].

茅言杰 ;

李思坤 ;

王向朝 .

中国专利 :CN109031892A ,2018-12-18

[7]

一种确定光刻机之间套刻精度匹配的方法及系统 [P].

罗明辉 ;

王文科 ;

吕学飞 ;

陈浩 .

中国专利 :CN102109767B ,2011-06-29

[8]

一种光刻机之间的工艺匹配方法 [P].

王剑 ;

毛智彪 ;

戴韫青 .

中国专利 :CN102445858A ,2012-05-09

[9]

同一光刻工艺中不同光刻机的匹配方法 [P].

李玉华 .

中国专利 :CN103792793B ,2014-05-14

[10]

同一光刻工艺中不同光刻机的匹配方法 [P].

王剑 ;

毛智彪 ;

戴韫青 .

中国专利 :CN102445860B ,2012-05-09

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