晶片清洗装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200820157533.0

申请日：

2008-12-19

公开(公告)号：

CN201315314Y

公开(公告)日：

2009-09-23

发明(设计)人：

杜亮王伟肖志强黄子伦

申请人：

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L2102 B08B300

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

李丽

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-12-12	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101485343102 IPC(主分类):H01L 21/00 专利号:ZL2008201575330 变更事项:专利权人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更后权利人:100176 北京市经济技术开发区文昌大道18号登记生效日:20121112
2009-09-23	授权	授权
2019-01-11	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20081219 授权公告日:20090923

共 50 条

[1]

晶片清洗装置 [P].

刘火阳 ;

叶水景 ;

周铁军 ;

马金峰 ;

宋向荣 .

中国专利 :CN215031662U ,2021-12-07

[2]

石英晶片硝酸清洗装置 [P].

郝建军 ;

李永斌 ;

张贻建 ;

何庆利 ;

徐秀杰 .

中国专利 :CN205613769U ,2016-10-05

[3]

晶片的清洗装置 [P].

袁廷波 ;

胡晓洪 .

中国专利 :CN203526139U ,2014-04-09

[4]

晶片表面清洗装置 [P].

刘海晓 ;

吴仪 .

中国专利 :CN202356338U ,2012-08-01

[5]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

申埈燮 ;

张月 ;

杨涛 ;

卢一泓 ;

刘青 .

中国专利 :CN114226294A ,2022-03-25

[6]

晶片清洗装置及晶片清洗设备 [P].

张洁 ;

苏双图 ;

林武庆 ;

王泽隆 .

中国专利 :CN111009482B ,2020-04-14

[7]

用于清洗晶片的摇摆清洗装置 [P].

任先林 ;

陈俊 .

中国专利 :CN201913089U ,2011-08-03

[8]

单槽晶片净化清洗装置 [P].

周海 ;

韦嘉辉 ;

宋放 ;

徐晓明 ;

徐彤彤 .

中国专利 :CN208513195U ,2019-02-19

[9]

晶片清洗装置 [P].

刘伟 ;

吴仪 ;

张豹 ;

蔡家骏 ;

初国超 .

中国专利 :CN202638797U ,2013-01-02

[10]

晶片清洗装置 [P].

胡睿凡 ;

赵曾男 .

中国专利 :CN211304029U ,2020-08-21

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