晶片清洗装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220163701.3

申请日：

2012-04-17

公开(公告)号：

CN202638797U

公开(公告)日：

2013-01-02

发明(设计)人：

刘伟吴仪张豹蔡家骏初国超

申请人：

申请人地址：

100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层

IPC主分类号：

B08B312

IPC分类号：

B08B1300

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

王莹

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-01-02	授权	授权
2022-05-03	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):B08B 3/12 申请日:20120417 授权公告日:20130102

共 50 条

[1]

晶片清洗装置及清洗方法 [P].

刘伟 ;

吴仪 ;

张豹 ;

蔡家骏 ;

初国超 .

中国专利 :CN102641869A ,2012-08-22

[2]

磷化铟晶片清洗方法及半导体晶片清洗装置 [P].

王金灵 ;

周铁军 ;

田玉莲 ;

毕宏岩 .

中国专利 :CN117380617A ,2024-01-12

[3]

晶片清洗装置 [P].

刘火阳 ;

叶水景 ;

周铁军 ;

马金峰 ;

宋向荣 .

中国专利 :CN215031662U ,2021-12-07

[4]

晶片表面清洗装置 [P].

刘海晓 ;

吴仪 .

中国专利 :CN202356338U ,2012-08-01

[5]

晶片背面清洗装置 [P].

李伟 ;

张豹 ;

吴仪 ;

王锐廷 ;

王浩 .

中国专利 :CN202779014U ,2013-03-13

[6]

半导体晶片兆声清洗装置 [P].

李晓岚 ;

王阳 ;

孙聂枫 ;

刘惠生 ;

孙同年 .

中国专利 :CN207602528U ,2018-07-10

[7]

半导体晶片清洗装置 [P].

马祖光 ;

郭光辉 .

中国专利 :CN208923038U ,2019-05-31

[8]

晶片清洗装置 [P].

朱宁 ;

刘增伟 ;

王培培 .

中国专利 :CN205595313U ,2016-09-21

[9]

晶片清洗烘干装置 [P].

徐致远 ;

夏金伟 ;

王泽飞 .

中国专利 :CN216868993U ,2022-07-01

[10]

晶片背面清洗装置 [P].

李伟 ;

张豹 ;

吴仪 ;

王锐廷 ;

王浩 .

中国专利 :CN102779772A ,2012-11-14

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