晶片背面清洗装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220345404.0

申请日：

2012-07-16

公开(公告)号：

CN202779014U

公开(公告)日：

2013-03-13

发明(设计)人：

李伟张豹吴仪王锐廷王浩

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层

IPC主分类号：

B08B302

IPC分类号：

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

韩国胜

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-02	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):B08B 3/02 申请日:20120716 授权公告日:20130313
2013-03-13	授权	授权

共 50 条

[1]

晶片背面清洗装置 [P].

李伟 ;

张豹 ;

吴仪 ;

王锐廷 ;

王浩 .

中国专利 :CN102779772A ,2012-11-14

[2]

晶片清洗装置 [P].

刘伟 ;

吴仪 ;

张豹 ;

蔡家骏 ;

初国超 .

中国专利 :CN202638797U ,2013-01-02

[3]

一种晶片背面清洗装置 [P].

胡延兵 ;

卢继奎 .

中国专利 :CN105097438A ,2015-11-25

[4]

一种减少损伤的晶片背面清洗装置 [P].

钟兴进 .

中国专利 :CN215355051U ,2021-12-31

[5]

晶圆背面清洗装置 [P].

许忠晖 ;

王东铭 ;

陈嘉勇 ;

杨昱霖 .

中国专利 :CN214099590U ,2021-08-31

[6]

晶片清洗装置及清洗方法 [P].

刘伟 ;

吴仪 ;

张豹 ;

蔡家骏 ;

初国超 .

中国专利 :CN102641869A ,2012-08-22

[7]

晶片背面或边缘的清洗装置及清洗方法 [P].

李锺明 ;

李奎必 ;

崔汉摄 .

中国专利 :CN105960698A ,2016-09-21

[8]

晶片清洗装置 [P].

胡睿凡 ;

赵曾男 .

中国专利 :CN211304029U ,2020-08-21

[9]

晶片清洗装置 [P].

刘火阳 ;

叶水景 ;

周铁军 ;

马金峰 ;

宋向荣 .

中国专利 :CN215031662U ,2021-12-07

[10]

晶片清洗装置 [P].

朱宁 ;

刘增伟 ;

王培培 .

中国专利 :CN205595313U ,2016-09-21

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