晶片背面或边缘的清洗装置及清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480074937.1

申请日：

2014-08-25

公开(公告)号：

CN105960698A

公开(公告)日：

2016-09-21

发明(设计)人：

李锺明李奎必崔汉摄

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道华城市东滩面东滩产团6-街，15-23

IPC主分类号：

H01L21302

IPC分类号：

代理机构：

北京锺维联合知识产权代理有限公司 11579

代理人：

罗银燕

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-01-17	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L 21/302 申请公布日:20160921
2016-09-21	公开	公开
2016-10-19	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101683310365 IPC(主分类):H01L 21/302 专利申请号:2014800749371 申请日:20140825

共 50 条

[1]

晶片背面清洗装置 [P].

李伟 ;

张豹 ;

吴仪 ;

王锐廷 ;

王浩 .

中国专利 :CN102779772A ,2012-11-14

[2]

晶片背面清洗装置 [P].

李伟 ;

张豹 ;

吴仪 ;

王锐廷 ;

王浩 .

中国专利 :CN202779014U ,2013-03-13

[3]

晶片边缘清洗装置 [P].

王坚 ;

赵宇 ;

吴均 ;

王晖 .

中国专利 :CN103418563B ,2013-12-04

[4]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

吉野道朗 ;

高桥正行 ;

松野行壮 ;

久保隆志 .

中国专利 :CN104347384A ,2015-02-11

[5]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

姜喆求 ;

高建峰 ;

卢一泓 ;

刘卫兵 ;

丁云凌 .

中国专利 :CN114678322A ,2022-06-28

[6]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

申埈燮 ;

张月 ;

杨涛 ;

卢一泓 ;

刘青 .

中国专利 :CN114226294A ,2022-03-25

[7]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

慎吉晟 ;

胡艳鹏 ;

李琳 .

中国专利 :CN114425527A ,2022-05-03

[8]

边缘清洗装置及边缘清洗方法 [P].

王晖 ;

王坚 ;

贾照伟 ;

杨宏超 ;

杨小亚 .

中国专利 :CN120237044A ,2025-07-01

[9]

晶片清洗装置及清洗方法 [P].

松永祐平 ;

冲田宪治 .

中国专利 :CN110911302A ,2020-03-24

[10]

晶片清洗装置及清洗方法 [P].

李敏 .

中国专利 :CN101651085A ,2010-02-17

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