晶片清洗装置及清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811073772.2

申请日：

2018-09-14

公开(公告)号：

CN110911302A

公开(公告)日：

2020-03-24

发明(设计)人：

松永祐平冲田宪治

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2102 B08B702

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

张泽洲;刘林华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-03-24	公开	公开
2020-04-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20180914

共 50 条

[1]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

吉野道朗 ;

高桥正行 ;

松野行壮 ;

久保隆志 .

中国专利 :CN104347384A ,2015-02-11

[2]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

申埈燮 ;

张月 ;

杨涛 ;

卢一泓 ;

刘青 .

中国专利 :CN114226294A ,2022-03-25

[3]

晶片清洗方法及清洗装置 [P].

刘庆辉 ;

任殿胜 ;

王育新 ;

王海楠 .

中国专利 :CN119049957A ,2024-11-29

[4]

晶片清洗装置及清洗方法 [P].

刘伟 ;

吴仪 ;

张豹 ;

蔡家骏 ;

初国超 .

中国专利 :CN102641869A ,2012-08-22

[5]

石英晶片的清洗方法及清洗装置 [P].

李群胜 ;

汤剑波 .

中国专利 :CN102218413A ,2011-10-19

[6]

晶片清洗装置及晶片清洗设备 [P].

张洁 ;

苏双图 ;

林武庆 ;

王泽隆 .

中国专利 :CN111009482B ,2020-04-14

[7]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

姜喆求 ;

高建峰 ;

卢一泓 ;

刘卫兵 ;

丁云凌 .

中国专利 :CN114678322A ,2022-06-28

[8]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

慎吉晟 ;

胡艳鹏 ;

李琳 .

中国专利 :CN114425527A ,2022-05-03

[9]

晶片表面清洗装置及清洗方法 [P].

刘海晓 ;

吴仪 .

中国专利 :CN102416391A ,2012-04-18

[10]

晶片清洗装置 [P].

刘火阳 ;

叶水景 ;

周铁军 ;

马金峰 ;

宋向荣 .

中国专利 :CN215031662U ,2021-12-07

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