晶片清洗方法及清洗装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411131773.3

申请日：

2024-08-16

公开(公告)号：

CN119049957A

公开(公告)日：

2024-11-29

发明(设计)人：

刘庆辉任殿胜王育新王海楠

申请人：

朝阳通美晶体科技有限公司保定通美晶体制造有限责任公司

申请人地址：

122304 辽宁省朝阳市喀左县公营子镇重工路9号

IPC主分类号：

H01L21/02

IPC分类号：

H01L21/67 B08B3/02 B08B3/04

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258

代理人：

李剑

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

河北省保定市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/02申请日:20240816
2024-11-29	公开	公开

共 50 条

[1]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

吉野道朗 ;

高桥正行 ;

松野行壮 ;

久保隆志 .

中国专利 :CN104347384A ,2015-02-11

[2]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

申埈燮 ;

张月 ;

杨涛 ;

卢一泓 ;

刘青 .

中国专利 :CN114226294A ,2022-03-25

[3]

晶片清洗装置及清洗方法 [P].

松永祐平 ;

冲田宪治 .

中国专利 :CN110911302A ,2020-03-24

[4]

晶片清洗装置及清洗方法 [P].

刘伟 ;

吴仪 ;

张豹 ;

蔡家骏 ;

初国超 .

中国专利 :CN102641869A ,2012-08-22

[5]

晶片清洗装置及晶片清洗设备 [P].

张洁 ;

苏双图 ;

林武庆 ;

王泽隆 .

中国专利 :CN111009482B ,2020-04-14

[6]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

姜喆求 ;

高建峰 ;

卢一泓 ;

刘卫兵 ;

丁云凌 .

中国专利 :CN114678322A ,2022-06-28

[7]

晶片清洗装置及晶片清洗方法 [P].

慎吉晟 ;

胡艳鹏 ;

李琳 .

中国专利 :CN114425527A ,2022-05-03

[8]

晶片表面清洗装置及清洗方法 [P].

刘海晓 ;

吴仪 .

中国专利 :CN102416391A ,2012-04-18

[9]

晶片清洗装置及清洗方法 [P].

李敏 .

中国专利 :CN101651085A ,2010-02-17

[10]

石英晶片的清洗方法及清洗装置 [P].

欧阳林 ;

欧阳晟 ;

韩何明 ;

欧阳华 .

中国专利 :CN109647785A ,2019-04-19

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