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半导体晶片清洗装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201821656375.3
申请日：
2018-10-12
公开(公告)号：
CN208923038U
公开(公告)日：
2019-05-31
发明(设计)人：
马祖光
郭光辉
申请人：
申请人地址：
250217 山东省济南市章丘区官庄街道办事处养军店村
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
济南瑞宸知识产权代理有限公司 37268
代理人：
徐健
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-05-31 | 授权 | 授权 |