共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
半导体晶片清洗装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201921762503.7
申请日：
2019-10-18
公开(公告)号：
CN210722959U
公开(公告)日：
2020-06-09
发明(设计)人：
陈海
顾正龙
申请人：
申请人地址：
215600 江苏省苏州市张家港杨舍镇塘市南庄村金港大道848号张家港海扬超声清洗设备有限公司
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260
代理人：
许云峰
法律状态：
授权
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-06-09 | 授权 | 授权 |