半导体晶片清洗装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN96114251.0

申请日：

1996-12-19

公开(公告)号：

CN1156901A

公开(公告)日：

1997-08-13

发明(设计)人：

韩石彬

申请人：

申请人地址：

韩国忠清北道

IPC主分类号：

H01L2130

IPC分类号：

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

余朦

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1997-08-13	公开	公开
2002-04-03	授权	授权
2015-02-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101598340140 IPC(主分类):H01L 21/302 专利号:ZL961142510 申请日:19961219 授权公告日:20020403 终止日期:20131219
1997-07-16	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效

共 50 条

[1]

半导体晶片清洗装置 [P].

马祖光 ;

郭光辉 .

中国专利 :CN208923038U ,2019-05-31

[2]

半导体晶片清洗装置 [P].

韩石彬 .

中国专利 :CN1083153C ,1997-08-13

[3]

半导体晶片清洗装置 [P].

韩石彬 .

中国专利 :CN1118865C ,1997-11-05

[4]

半导体晶片的清洗装置以及半导体晶片的清洗方法 [P].

野田魁人 ;

大久保知洋 ;

中尾勇贵 ;

富田迪彦 .

中国专利 :CN114902379A ,2022-08-12

[5]

半导体晶片清洗装置 [P].

陈海 ;

顾正龙 .

中国专利 :CN210722959U ,2020-06-09

[6]

磷化铟晶片清洗方法及半导体晶片清洗装置 [P].

王金灵 ;

周铁军 ;

田玉莲 ;

毕宏岩 .

中国专利 :CN117380617A ,2024-01-12

[7]

半导体晶片用干冰清洗装置及半导体晶片的清洗方法 [P].

矢野良树 ;

渕上庆太 .

日本专利 :CN118056266A ,2024-05-17

[8]

半导体晶片清洗花篮 [P].

陆晓东 ;

张鹏 ;

周涛 ;

赵洋 ;

王泽来 .

中国专利 :CN203787400U ,2014-08-20

[9]

半导体晶片动态换向清洗装置和清洗方法 [P].

李杰 ;

姜月月 .

中国专利 :CN120998815A ,2025-11-21

[10]

半导体晶片清洗装置和方法 [P].

L·张 ;

M·G·威林 .

中国专利 :CN1310860A ,2001-08-29

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