一种具有可控磁场的脉冲激光沉积制膜系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610001808.7

申请日：

2006-01-20

公开(公告)号：

CN100526497C

公开(公告)日：

2007-07-25

发明(设计)人：

宁廷银周岳亮赵嵩卿王淑芳韩鹏程波林金奎娟吕惠宾陈正豪何萌刘知韵杨国桢

申请人：

申请人地址：

100080北京市海淀区中关村南三街8号

IPC主分类号：

C23C1428

IPC分类号：

C23C1435

代理机构：

北京泛华伟业知识产权代理有限公司

代理人：

高存秀

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-03-27	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101416717783 IPC(主分类):C23C 14/28 专利号:ZL2006100018087 申请日:20060120 授权公告日:20090812 终止日期:20120120
2007-07-25	公开	公开
2009-08-12	授权	授权
2007-09-19	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

强磁场辅助脉冲激光沉积系统 [P].

戴建明 ;

张科军 ;

邹键 ;

刘亲壮 ;

盛志高 ;

朱雪斌 ;

吴文彬 ;

孙玉平 .

中国专利 :CN103774097A ,2014-05-07

[2]

脉冲激光沉积系统 [P].

石永敬 .

中国专利 :CN207775343U ,2018-08-28

[3]

一种脉冲激光沉积系统 [P].

胡居广 ;

刁雄辉 ;

林晓东 ;

李启文 ;

钟健 ;

施苇 ;

刘毅 ;

龙井华 .

中国专利 :CN202054887U ,2011-11-30

[4]

一种脉冲激光沉积系统 [P].

胡居广 ;

刁雄辉 ;

林晓东 ;

李启文 ;

钟健 ;

施苇 ;

刘毅 ;

龙井华 .

中国专利 :CN102051583B ,2011-05-11

[5]

一种可加电场的脉冲激光沉积制膜系统 [P].

宁廷银 ;

周岳亮 ;

赵嵩卿 ;

王淑芳 ;

韩鹏 ;

程波林 ;

金奎娟 ;

吕惠宾 ;

陈正豪 ;

何萌 ;

刘知韵 ;

杨国桢 .

中国专利 :CN100526498C ,2007-07-25

[6]

脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统 [P].

代瑞娜 ;

张晓军 ;

胡凯 ;

陈志强 ;

方安安 ;

姜鹭 ;

潘恒 ;

王岩 ;

王峻岭 .

中国专利 :CN208632633U ,2019-03-22

[7]

强磁场下脉冲激光沉积薄膜制备系统 [P].

戴建明 ;

方军 ;

张科军 ;

吴文彬 ;

孙玉平 .

中国专利 :CN102877032A ,2013-01-16

[8]

脉冲激光沉积系统及采用该系统来沉积薄膜的方法 [P].

石永敬 .

中国专利 :CN106399949A ,2017-02-15

[9]

一种水平结构布局的脉冲激光沉积系统 [P].

孟建伟 ;

刘鹏 ;

翁祖谦 .

中国专利 :CN113463035A ,2021-10-01

[10]

一种用于脉冲激光沉积系统中的调节基片角度的装置 [P].

曹玲柱 ;

孙志辉 ;

宁廷银 ;

赵嵩卿 ;

张洪艳 ;

陆珩 ;

杨慧 ;

周岳亮 ;

金奎娟 ;

吕惠宾 ;

杨国桢 .

中国专利 :CN100540725C ,2008-05-14

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