针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂及其制备和使用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201611237577.X
申请日
2016-12-28
公开(公告)号
CN106867691A
公开(公告)日
2017-06-20
发明(设计)人
张金山 夏志先 王柳红 杨厚连
申请人
申请人地址
201108 上海市闵行区剑川路951号综合业务楼1层1027室
IPC主分类号
C11D134
IPC分类号
C11D304 C11D360 B08B308
代理机构
上海精晟知识产权代理有限公司 31253
代理人
杜蔚琼
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
用于形成二氧化硅膜的组合物、二氧化硅膜的制造方法和二氧化硅膜 [P]. 
卢健培 ;
郭泽秀 ;
张俊英 ;
具仑永 ;
金龙国 ;
金真教 ;
裵镇希 ;
司空峻 ;
徐珍雨 ;
沈秀妍 ;
尹熙灿 ;
李知虎 ;
韩权愚 ;
黄丙奎 .
中国专利 :CN111212881A ,2020-05-29
[2]
二氧化硅和硅酸盐结垢的抑制方法 [P]. 
唐纳德·C·罗 .
中国专利 :CN1307649A ,2001-08-08
[3]
在银币表面制备二氧化硅膜的方法、二氧化硅膜和银币 [P]. 
王浙加 ;
李明 ;
明帅强 ;
夏洋 ;
冯嘉恒 .
中国专利 :CN114774882A ,2022-07-22
[4]
在银币表面制备二氧化硅膜的方法、二氧化硅膜和银币 [P]. 
王浙加 ;
李明 ;
明帅强 ;
夏洋 ;
冯嘉恒 .
中国专利 :CN114481093A ,2022-05-13
[5]
用于在膜应用中二氧化硅结垢抑制的二氧化硅抑垢剂组合物及方法 [P]. 
张兴鹏 ;
叶冬颖 ;
J·梅尔泽尔 ;
C·隋 ;
蔡乾涛 ;
M·沙玛 .
中国专利 :CN114340768A ,2022-04-12
[6]
二氧化硅垢的协同控制 [P]. 
S·梅塔 ;
B·L·图里尼 .
中国专利 :CN104203841B ,2014-12-10
[7]
二氧化硅清洗装置 [P]. 
张习林 ;
刘守国 .
中国专利 :CN203227622U ,2013-10-09
[8]
二氧化硅镭射转移膜、二氧化硅镭射转移纸及其制备方法 [P]. 
闵东 ;
吕伟 ;
毛凤荣 ;
赵晋彬 ;
郭鹏飞 ;
袁国松 .
中国专利 :CN111016510A ,2020-04-17
[9]
二氧化硅及其制备方法 [P]. 
于东磊 ;
郑银丽 ;
石明 ;
张颖 ;
仝少超 ;
吕学谦 ;
苏国良 .
中国专利 :CN119080013A ,2024-12-06
[10]
二氧化硅颗粒以及二氧化硅颗粒的制备方法 [P]. 
奥野广良 ;
井上敏司 ;
饭田能史 ;
中岛与人 ;
钱谷优香 ;
惠利祥史 ;
角仓康夫 ;
师冈泰久 ;
野崎骏介 ;
岩永猛 ;
竹内荣 .
中国专利 :CN106517214A ,2017-03-22