超支化聚酯微光学光刻胶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910214063.6

申请日：

2009-12-18

公开(公告)号：

CN101799625A

公开(公告)日：

2010-08-11

发明(设计)人：

冯宗财

申请人：

申请人地址：

524048 广东省湛江市赤坎区寸金路29号

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

G03F7038

代理机构：

湛江市三强专利事务所 44203

代理人：

庞爱英

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-09-29	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101006242738 IPC(主分类):G03F 7/004 专利申请号:2009102140636 申请日:20091218
2016-02-10	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101645509072 IPC(主分类):G03F 7/004 专利号:ZL2009102140636 申请日:20091218 授权公告日:20111123 终止日期:20141218
2011-11-23	授权	授权

共 50 条

[1]

超支化聚酯微光学光刻胶的连续生产装置 [P].

冯宗财 ;

汪德凤 ;

莫辰希 ;

黄强 .

中国专利 :CN2864746Y ,2007-01-31

[2]

超支化聚硅氧烷基光刻胶 [P].

范晓东 ;

张国彬 ;

孔杰 ;

刘郁杨 .

中国专利 :CN101122742B ,2008-02-13

[3]

超支化聚合物分子结构、制备方法以及基于超支化聚合物的光刻胶 [P].

罗启祥 ;

曾伟 .

中国专利 :CN114835889A ,2022-08-02

[4]

一种光刻胶组合物及光刻胶图案化方法 [P].

李弋舟 ;

江启明 ;

邓辉 ;

李铁峰 .

中国专利 :CN118466115A ,2024-08-09

[5]

饶夙缔 ;

陈孝贤 .

中国专利 :CN110174819B ,2019-08-27

[6]

一种负性光刻胶 [P].

尤慧 ;

顾奇 ;

王胜林 .

中国专利 :CN106886128B ,2017-06-23

[7]

负型超厚膜光刻胶 [P].

菱田有高 ;

本林央志 ;

卢蕾 ;

陈春伟 ;

卢炳宏 ;

刘卫宏 .

中国专利 :CN111837075A ,2020-10-27

[8]

负性光刻胶组合物及应用 [P].

赵呈 ;

吕亮 ;

何俊 .

中国专利 :CN120215210A ,2025-06-27

[9]

光刻胶及其制备方法与应用 [P].

周徐 ;

徐国强 ;

黄耀鹏 ;

徐海生 .

中国专利 :CN105573057A ,2016-05-11

[10]

负型超厚膜光刻胶 [P].

菱田有高 ;

本林央志 ;

卢蕾 ;

陈春伟 ;

卢炳宏 ;

刘卫宏 .

德国专利 :CN111837075B ,2024-07-05

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