负性光刻胶组合物及应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311769624.5

申请日：

2023-12-20

公开(公告)号：

CN120215210A

公开(公告)日：

2025-06-27

发明(设计)人：

赵呈吕亮何俊

申请人：

安庆飞凯新材料有限公司

申请人地址：

246000 安徽省安庆市高新区香樟路9号

IPC主分类号：

G03F7/038

IPC分类号：

G03F7/16 G03F7/027

代理机构：

北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138

代理人：

蔡静

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-27	公开	公开
2025-07-15	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/038申请日:20231220

共 50 条

[1]

一种负性光刻胶及其制备方法与应用 [P].

郑万强 ;

姚慧玲 ;

国凤玲 ;

聂亮 ;

耿超群 ;

王鹏雁 .

中国专利 :CN111158213A ,2020-05-15

[2]

一种负性光刻胶 [P].

尤慧 ;

顾奇 ;

王胜林 .

中国专利 :CN106886128B ,2017-06-23

[3]

负性光刻胶组合物及其应用和成像方法 [P].

李禾禾 ;

毛鸿超 ;

王静 ;

曾成财 ;

肖清凯 ;

郑可茹 ;

宋里千 ;

肖楠 .

中国专利 :CN119668028A ,2025-03-21

[4]

水溶性负性光刻胶组合物 [P].

I·麦克库罗克 ;

A·J·伊斯特 ;

康明 ;

R·克西安 ;

H－N·尹 .

中国专利 :CN1145651C ,2001-07-11

[5]

负性光刻胶及其应用 [P].

李颖 .

中国专利 :CN109343309A ,2019-02-15

[6]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469A ,2022-04-29

[7]

一种负性光刻胶组合物及图案化方法 [P].

汪岳 ;

张洋 ;

王鹏飞 ;

马爱平 ;

石阳阳 ;

王小伟 ;

袁江波 ;

周全 ;

胡宗学 .

中国专利 :CN120370628A ,2025-07-25

[8]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469B ,2024-06-11

[9]

一种负性光刻胶组合物及其制备方法与应用 [P].

葛学平 ;

洪性宰 ;

黄光锋 .

中国专利 :CN119916641A ,2025-05-02

[10]

负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30

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