水溶性负性光刻胶组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN99806602.8

申请日：

1999-05-18

公开(公告)号：

CN1145651C

公开(公告)日：

2001-07-11

发明(设计)人：

I·麦克库罗克 A·J·伊斯特康明 R·克西安 H－N·尹

申请人：

申请人地址：

瑞士穆腾茨

IPC主分类号：

C08F24600

IPC分类号：

G03F7038 G03F7039

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

李瑛

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2001-07-11	公开	公开
2007-07-18	专利权的终止未缴年费专利权终止	专利权的终止未缴年费专利权终止
2005-06-15	专利申请权、专利权的转移专利权的转移	专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更事项:专利权人变更前权利人:克拉里安特国际有限公司变更后权利人:AZ电子材料日本株式会社变更事项:地址变更前权利人:瑞士穆腾茨变更后权利人:日本东京登记生效日:20050513
2001-07-18	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
2004-04-14	授权	授权

共 50 条

[1]

负性光刻胶组合物及应用 [P].

赵呈 ;

吕亮 ;

何俊 .

中国专利 :CN120215210A ,2025-06-27

[2]

负性光刻胶组合物和图案化方法 [P].

张路 ;

王雪岚 .

中国专利 :CN119781248A ,2025-04-08

[3]

负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30

[4]

一种负性光刻胶组合物及其应用 [P].

李启贵 ;

张洋 ;

汪岳 ;

王鹏飞 ;

马爱平 ;

王小伟 .

中国专利 :CN119322429A ,2025-01-17

[5]

一种负性光刻胶组合物及其应用 [P].

李启贵 ;

张洋 ;

汪岳 ;

王鹏飞 ;

马爱平 ;

王小伟 .

中国专利 :CN119322429B ,2025-02-28

[6]

光刻胶组合物 [P].

李明琦 ;

E·阿恰达 ;

刘骢 ;

陈庆隆 ;

山田晋太郎 ;

C-B·徐 ;

J·玛蒂亚 .

中国专利 :CN102799068B ,2012-11-28

[7]

负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法 [P].

周元基 ;

孙逊运 ;

向容 .

中国专利 :CN113985701B ,2024-11-01

[8]

负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法 [P].

周元基 ;

孙逊运 ;

向容 .

中国专利 :CN113985701A ,2022-01-28

[9]

负性光刻胶及其应用 [P].

李颖 .

中国专利 :CN109343309A ,2019-02-15

[10]

负性光刻胶组合物及其制备方法和应用 [P].

侯远杨 ;

刁莹雪 ;

鲁代仁 ;

李冰 ;

孙嘉 ;

董栋 ;

张宁 .

中国专利 :CN117631453A ,2024-03-01

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