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负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202111476489.6
申请日：
2021-12-06
公开(公告)号：
CN113985701A
公开(公告)日：
2022-01-28
发明(设计)人：
周元基 孙逊运 向容
申请人：
申请人地址：
261000 山东省潍坊市高新技术开发区清池街道府东社区高二路417号2号楼1-2层
IPC主分类号：
G03F7038
IPC分类号：
G03F7004 G03F720
代理机构：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463
代理人：
张金铭
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2022-01-28 公开 公开
2022-02-18 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/038 申请日:20211206
共 50 条
[1]
负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法 [P]. 
周元基 ;
孙逊运 ;
向容 .
中国专利 :CN113985701B ,2024-11-01
[2]
负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P]. 
王晓伟 .
中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30
[3]
光刻胶组合物、制备方法及应用和形成光刻胶图案的方法 [P]. 
周元基 .
中国专利 :CN114167684A ,2022-03-11
[4]
光刻胶组合物、制备方法及应用和形成光刻胶图案的方法 [P]. 
周元基 .
中国专利 :CN114167684B ,2025-02-07
[5]
光刻胶及形成光刻图案的方法 [P]. 
钱晓春 ;
胡春青 ;
马丽君 .
中国专利 :CN111061126A ,2020-04-24
[6]
光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 [P]. 
朴廷敏 ;
郑斗喜 ;
李羲国 ;
尹赫敏 ;
丘冀赫 .
中国专利 :CN101281369A ,2008-10-08
[7]
光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P]. 
徐宏 ;
何向明 ;
刘天棋 .
中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14
[8]
负性光刻胶组合物和图案化方法 [P]. 
张路 ;
王雪岚 .
中国专利 :CN119781248A ,2025-04-08
[9]
正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法 [P]. 
增田靖男 ;
奥井俊树 .
中国专利 :CN1823108A ,2006-08-23
[10]
正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P]. 
羽田英夫 ;
藤村悟史 ;
岩下淳 .
中国专利 :CN1276304C ,2005-02-09
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