光刻胶组合物、制备方法及应用和形成光刻胶图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111483647.0

申请日：

2021-12-07

公开(公告)号：

CN114167684B

公开(公告)日：

2025-02-07

发明(设计)人：

周元基

申请人：

潍坊星泰克微电子材料有限公司

申请人地址：

261000 山东省潍坊市高新技术开发区清池街道府东社区高二路417号2号楼1-2层

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/16 G03F7/32 G03F7/38

代理机构：

北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 11463

代理人：

张金铭

法律状态：

授权

国省代码：

山东省潍坊市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-07	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻胶组合物、制备方法及应用和形成光刻胶图案的方法 [P].

周元基 .

中国专利 :CN114167684A ,2022-03-11

[2]

负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法 [P].

周元基 ;

孙逊运 ;

向容 .

中国专利 :CN113985701B ,2024-11-01

[3]

负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法 [P].

周元基 ;

孙逊运 ;

向容 .

中国专利 :CN113985701A ,2022-01-28

[4]

负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30

[5]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[6]

光刻胶及形成光刻图案的方法 [P].

钱晓春 ;

胡春青 ;

马丽君 .

中国专利 :CN111061126A ,2020-04-24

[7]

正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法 [P].

增田靖男 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN1823108A ,2006-08-23

[8]

光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 [P].

朴廷敏 ;

郑斗喜 ;

李羲国 ;

尹赫敏 ;

丘冀赫 .

中国专利 :CN101281369A ,2008-10-08

[9]

光刻胶组合物和形成光刻图案的方法 [P].

Y·C·裴 ;

T·卡多拉西亚 ;

孙纪斌 ;

D·J·阿里奥拉 ;

K·A·弗雷泽 .

中国专利 :CN102445848A ,2012-05-09

[10]

光刻胶组合物和形成光刻图案的方法 [P].

朴钟根 ;

C·N·李 ;

C·安德斯 ;

D·王 .

中国专利 :CN103576458A ,2014-02-12

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