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一种负性光刻胶组合物及其应用
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411874031.X
申请日
:
2024-12-19
公开(公告)号
:
CN119322429B
公开(公告)日
:
2025-02-28
发明(设计)人
:
李启贵
张洋
汪岳
王鹏飞
马爱平
王小伟
申请人
:
西安瑞联新材料股份有限公司
申请人地址
:
710000 陕西省西安市高新区锦业二路副71号
IPC主分类号
:
G03F7/004
IPC分类号
:
G02F1/1339
G03F7/027
代理机构
:
西安鼎迈知识产权代理事务所(普通合伙) 61263
代理人
:
李静
法律状态
:
授权
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-02-28
授权
授权
2025-01-17
公开
公开
2025-02-11
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20241219
共 50 条
[1]
一种负性光刻胶组合物及其应用
[P].
李启贵
论文数:
0
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
李启贵
;
张洋
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
张洋
;
汪岳
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
汪岳
;
王鹏飞
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
王鹏飞
;
马爱平
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
马爱平
;
王小伟
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
王小伟
.
中国专利
:CN119322429A
,2025-01-17
[2]
负性光刻胶组合物及其制备方法和应用
[P].
侯远杨
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机构:
彤程化学(中国)有限公司
彤程化学(中国)有限公司
侯远杨
;
刁莹雪
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机构:
彤程化学(中国)有限公司
彤程化学(中国)有限公司
刁莹雪
;
鲁代仁
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机构:
彤程化学(中国)有限公司
彤程化学(中国)有限公司
鲁代仁
;
李冰
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机构:
彤程化学(中国)有限公司
彤程化学(中国)有限公司
李冰
;
孙嘉
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彤程化学(中国)有限公司
彤程化学(中国)有限公司
孙嘉
;
董栋
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机构:
彤程化学(中国)有限公司
彤程化学(中国)有限公司
董栋
;
张宁
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机构:
彤程化学(中国)有限公司
彤程化学(中国)有限公司
张宁
.
中国专利
:CN117631453A
,2024-03-01
[3]
一种负性光刻胶组合物及其用途
[P].
王璨
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机构:
上海彤程电子材料有限公司
上海彤程电子材料有限公司
王璨
;
张宁
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机构:
上海彤程电子材料有限公司
上海彤程电子材料有限公司
张宁
;
李冰
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机构:
上海彤程电子材料有限公司
上海彤程电子材料有限公司
李冰
;
鲁代仁
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机构:
上海彤程电子材料有限公司
上海彤程电子材料有限公司
鲁代仁
;
裴坚
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机构:
上海彤程电子材料有限公司
上海彤程电子材料有限公司
裴坚
;
董栋
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机构:
上海彤程电子材料有限公司
上海彤程电子材料有限公司
董栋
.
中国专利
:CN120178598A
,2025-06-20
[4]
一种负性光刻胶组合物及图案化方法
[P].
汪岳
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
汪岳
;
张洋
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
张洋
;
王鹏飞
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
王鹏飞
;
马爱平
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
马爱平
;
石阳阳
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
石阳阳
;
王小伟
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
王小伟
;
袁江波
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
袁江波
;
周全
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
周全
;
胡宗学
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机构:
西安瑞联新材料股份有限公司
西安瑞联新材料股份有限公司
胡宗学
.
中国专利
:CN120370628A
,2025-07-25
[5]
负性光刻胶组合物及应用
[P].
赵呈
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机构:
安庆飞凯新材料有限公司
安庆飞凯新材料有限公司
赵呈
;
吕亮
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机构:
安庆飞凯新材料有限公司
安庆飞凯新材料有限公司
吕亮
;
何俊
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机构:
安庆飞凯新材料有限公司
安庆飞凯新材料有限公司
何俊
.
中国专利
:CN120215210A
,2025-06-27
[6]
负性光刻胶及其应用
[P].
李颖
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0
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李颖
.
中国专利
:CN109343309A
,2019-02-15
[7]
一种负性光刻胶
[P].
尤慧
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尤慧
;
顾奇
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顾奇
;
王胜林
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0
王胜林
.
中国专利
:CN106886128B
,2017-06-23
[8]
水溶性负性光刻胶组合物
[P].
I·麦克库罗克
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I·麦克库罗克
;
A·J·伊斯特
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A·J·伊斯特
;
康明
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康明
;
R·克西安
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R·克西安
;
H-N·尹
论文数:
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H-N·尹
.
中国专利
:CN1145651C
,2001-07-11
[9]
一种负性光刻胶组合物及其制备方法与应用
[P].
葛学平
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机构:
上海玟昕科技有限公司
上海玟昕科技有限公司
葛学平
;
洪性宰
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机构:
上海玟昕科技有限公司
上海玟昕科技有限公司
洪性宰
;
黄光锋
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机构:
上海玟昕科技有限公司
上海玟昕科技有限公司
黄光锋
.
中国专利
:CN119916641A
,2025-05-02
[10]
负性光刻胶组合物及其应用和成像方法
[P].
李禾禾
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0
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机构:
福建泓光半导体材料有限公司
福建泓光半导体材料有限公司
李禾禾
;
毛鸿超
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机构:
福建泓光半导体材料有限公司
福建泓光半导体材料有限公司
毛鸿超
;
王静
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机构:
福建泓光半导体材料有限公司
福建泓光半导体材料有限公司
王静
;
曾成财
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机构:
福建泓光半导体材料有限公司
福建泓光半导体材料有限公司
曾成财
;
肖清凯
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机构:
福建泓光半导体材料有限公司
福建泓光半导体材料有限公司
肖清凯
;
郑可茹
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机构:
福建泓光半导体材料有限公司
福建泓光半导体材料有限公司
郑可茹
;
宋里千
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机构:
福建泓光半导体材料有限公司
福建泓光半导体材料有限公司
宋里千
;
肖楠
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0
机构:
福建泓光半导体材料有限公司
福建泓光半导体材料有限公司
肖楠
.
中国专利
:CN119668028A
,2025-03-21
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