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负性光刻胶组合物及其制备方法和应用

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202210987968.2
申请日：
2022-08-17
公开(公告)号：
CN117631453A
公开(公告)日：
2024-03-01
发明(设计)人：
侯远杨 刁莹雪 鲁代仁 李冰 孙嘉 董栋 张宁
申请人：
彤程化学（中国）有限公司 上海彤程电子材料有限公司 彤程新材料集团股份有限公司
申请人地址：
201507 上海市奉贤区化学工业园区北银河路66号
IPC主分类号：
G03F7/038
IPC分类号：
G03F7/004
代理机构：
上海德禾翰通律师事务所 31319
代理人：
夏思秋
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
上海市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-03-19 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/038申请日:20220817
2024-03-01 公开 公开
共 50 条
[1]
一种负性光刻胶组合物及其应用 [P]. 
李启贵 ;
张洋 ;
汪岳 ;
王鹏飞 ;
马爱平 ;
王小伟 .
中国专利 :CN119322429A ,2025-01-17
[2]
一种负性光刻胶组合物及其应用 [P]. 
李启贵 ;
张洋 ;
汪岳 ;
王鹏飞 ;
马爱平 ;
王小伟 .
中国专利 :CN119322429B ,2025-02-28
[3]
负性光刻胶组合物及其应用和成像方法 [P]. 
李禾禾 ;
毛鸿超 ;
王静 ;
曾成财 ;
肖清凯 ;
郑可茹 ;
宋里千 ;
肖楠 .
中国专利 :CN119668028A ,2025-03-21
[4]
KrF负性光刻胶及其制备方法、应用 [P]. 
周元基 .
中国专利 :CN113960881A ,2022-01-21
[5]
KrF负性光刻胶及其制备方法、应用 [P]. 
周元基 .
中国专利 :CN113960881B ,2024-06-18
[6]
负性光刻胶组合物及应用 [P]. 
赵呈 ;
吕亮 ;
何俊 .
中国专利 :CN120215210A ,2025-06-27
[7]
负性光刻胶及其应用 [P]. 
李颖 .
中国专利 :CN109343309A ,2019-02-15
[8]
负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法 [P]. 
周元基 ;
孙逊运 ;
向容 .
中国专利 :CN113985701B ,2024-11-01
[9]
负性光刻胶组合物、制备方法及形成光刻胶图案的方法 [P]. 
周元基 ;
孙逊运 ;
向容 .
中国专利 :CN113985701A ,2022-01-28
[10]
负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P]. 
王晓伟 .
中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30
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