LDMOS晶体管的形成方法及LDMOS晶体管

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201410522011.6
申请日
2014-09-30
公开(公告)号
CN105529264A
公开(公告)日
2016-04-27
发明(设计)人
李勇 赵杰
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2978 H01L2906
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
吴敏;骆苏华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
LDMOS晶体管的形成方法及LDMOS晶体管 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN105826189A ,2016-08-03
[2]
LDMOS晶体管的形成方法及LDMOS晶体管 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN106158651A ,2016-11-23
[3]
LDMOS晶体管的形成方法及LDMOS晶体管 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN105529263B ,2016-04-27
[4]
LDMOS晶体管 [P]. 
G·马 ;
O·托恩布拉德 .
中国专利 :CN100530689C ,2007-01-03
[5]
LDMOS晶体管 [P]. 
G·马 .
中国专利 :CN100585875C ,2008-01-02
[6]
LDMOS晶体管结构及其形成方法 [P]. 
刘建华 .
中国专利 :CN102306661A ,2012-01-04
[7]
LDMOS晶体管结构及其形成方法 [P]. 
刘建华 ;
吴晓丽 ;
杨金 .
中国专利 :CN102339864A ,2012-02-01
[8]
LDMOS晶体管结构及其形成方法 [P]. 
吕宇强 ;
王艳颖 ;
杨海波 .
中国专利 :CN102280386A ,2011-12-14
[9]
LDMOS晶体管结构及其形成方法 [P]. 
刘建华 .
中国专利 :CN102270664A ,2011-12-07
[10]
LDMOS晶体管 [P]. 
喻慧 ;
蔡军 .
中国专利 :CN119170645A ,2024-12-20