去除金属杂质的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080019170.4

申请日：

2010-04-19

公开(公告)号：

CN102414226B

公开(公告)日：

2012-04-11

发明(设计)人：

R·芬克 J·施罗德 T·法伊弗 E·比泽尔

申请人：

申请人地址：

德国路德维希港

IPC主分类号：

C08F210

IPC分类号：

A61L1524 C08F606 C08J328

代理机构：

北京北翔知识产权代理有限公司 11285

代理人：

吴晓萍;钟守期

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-05-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101250910561 IPC(主分类):C08F 2/10 专利申请号:2010800191704 申请日:20100419
2013-07-03	授权	授权
2012-04-11	公开	公开

共 50 条

[1]

陶瓷浆料金属杂质去除方法及其金属杂质去除装置 [P].

梁正广 ;

王晓明 ;

廖凤鸣 ;

徐远新 .

中国专利 :CN105855037A ,2016-08-17

[2]

去除钽粉金属杂质的方法 [P].

柴正伍 .

中国专利 :CN112475285A ,2021-03-12

[3]

一种去除硅片金属杂质的方法 [P].

江润峰 ;

曹威 .

中国专利 :CN103871871A ,2014-06-18

[4]

去除多晶硅中金属杂质的方法 [P].

张海霞 ;

张海军 ;

车永军 ;

田鹏 .

中国专利 :CN102674365A ,2012-09-19

[5]

半导体表面金属杂质的去除方法 [P].

龙命潮 .

中国专利 :CN106783587B ,2017-05-31

[6]

一种去除金属离子杂质的方法 [P].

金佳科 ;

金光男 .

中国专利 :CN119680253A ,2025-03-25

[7]

除去金属杂质的方法 [P].

R·芬克 ;

J·施罗德 ;

M·威斯曼特尔 .

中国专利 :CN102245653A ,2011-11-16

[8]

甘草中金属杂质去除系统 [P].

石红鹏 .

中国专利 :CN204412450U ,2015-06-24

[9]

吡仑帕奈中金属杂质的去除方法 [P].

马瑞国 ;

薛允宁 ;

杨宗乾 ;

靳美霞 ;

刘九知 .

中国专利 :CN118851993A ,2024-10-29

[10]

吡仑帕奈中金属杂质的去除方法 [P].

马瑞国 ;

薛允宁 ;

杨宗乾 ;

靳美霞 ;

刘九知 .

中国专利 :CN118851993B ,2025-10-17

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