磁控溅射镀膜设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520435210.3

申请日：

2015-06-24

公开(公告)号：

CN204752843U

公开(公告)日：

2015-11-11

发明(设计)人：

张心凤郑杰尹辉

申请人：

申请人地址：

230088 安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F1楼1709室

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-11-11	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射镀膜设备 [P].

张心凤 ;

郑杰 ;

尹辉 .

中国专利 :CN104878361B ,2015-09-02

[2]

磁控溅射镀膜设备 [P].

张心凤 ;

郑杰 ;

尹辉 .

中国专利 :CN204727943U ,2015-10-28

[3]

磁控溅射镀膜设备 [P].

臧世伟 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN222455186U ,2025-02-11

[4]

磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备 [P].

罗金豪 ;

解传佳 ;

潘俊杰 ;

赵贤贵 .

中国专利 :CN222119368U ,2024-12-06

[5]

用于磁控溅射镀膜设备的放气装置及磁控溅射镀膜设备 [P].

陈军 ;

李弋舟 ;

陈曦 .

中国专利 :CN212199402U ,2020-12-22

[6]

磁控溅射镀膜设备 [P].

王伟 ;

张勇军 ;

魏佳 ;

卢成 ;

陈科 .

中国专利 :CN117721429B ,2024-04-23

[7]

磁控溅射镀膜设备 [P].

刘玉华 ;

方凤军 .

中国专利 :CN204455279U ,2015-07-08

[8]

磁控溅射镀膜设备 [P].

蒋文彬 ;

李宁 ;

孙忠 ;

黄智 ;

林锦华 ;

梁师国 ;

英文 ;

李保良 .

中国专利 :CN204474751U ,2015-07-15

[9]

磁控溅射镀膜设备 [P].

易伟华 ;

张迅 ;

张伯伦 .

中国专利 :CN106544637B ,2017-03-29

[10]

磁控溅射镀膜设备 [P].

王伟 ;

张勇军 ;

魏佳 ;

卢成 ;

陈科 .

中国专利 :CN117721429A ,2024-03-19

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