用于等离子体处理室部件的钇铝涂层

被引：0

申请号：

CN202180010655.5

申请日：

2021-01-21

公开(公告)号：

CN115003857A

公开(公告)日：

2022-09-02

发明(设计)人：

许临大卫·约瑟夫·韦策尔萨蒂什·斯里尼瓦桑罗宾·科什伊约翰·迈克尔·克恩斯约翰·多尔蒂

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C2404

IPC分类号：

C23C2408 C23C411 H01J3732

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

樊英如;张静

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 24/04 申请日:20210121
2022-09-02	公开	公开

共 50 条

[1]

用于等离子体处理室部件的氧化钇涂层 [P].

耶利米亚·迈克尔·德德里克 ;

萨蒂什·斯里尼瓦桑 ;

许临 ;

约翰·多尔蒂 .

美国专利 :CN119278496A ,2025-01-07

[2]

等离子体室部件上的抗腐蚀铝涂层 [P].

约翰·多尔蒂 ;

石洪 ;

许临 ;

安东尼·阿玛多 ;

罗伯特·G·奥尼尔 ;

彼得·霍兰 ;

西瓦克米·拉马纳坦 ;

金太旺 ;

杜安·乌特卡 ;

约翰·迈克尔·克恩斯 ;

索尼娅·卡斯蒂落 .

中国专利 :CN104046981A ,2014-09-17

[3]

用于等离子体处理室部件的密封剂涂层 [P].

本杰明·菲利普·海涅 ;

达雷尔·埃利希 ;

罗宾·科什伊 ;

斯洛博丹·米特罗维奇 ;

约翰·多尔蒂 .

美国专利 :CN120854248A ,2025-10-28

[4]

用于等离子体处理室部件的密封剂涂层 [P].

本杰明·菲利普·海涅 ;

达雷尔·埃利希 ;

罗宾·科什伊 ;

斯洛博丹·米特罗维奇 ;

约翰·多尔蒂 .

中国专利 :CN113966544A ,2022-01-21

[5]

用于等离子体室的低温烧结涂层 [P].

大卫·约瑟夫·韦策尔 ;

许临 ;

约翰·多尔蒂 ;

约翰·迈克尔·克恩斯 ;

萨蒂什·斯里尼瓦桑 ;

罗宾·科什伊 ;

迈克尔·洛佩斯 ;

道格拉斯·德特尔特 .

中国专利 :CN114730692A ,2022-07-08

[6]

用于等离子体处理装置的腔室部件及用于在设置有腔室部件的等离子体处理腔室中使用的装置 [P].

麦特斯·I·拉尔森 ;

尤吉塔·巴瑞克 ;

王建齐 ;

凯文·A·派克 .

中国专利 :CN208352256U ,2019-01-08

[7]

等离子体处理装置用部件和等离子体处理装置用部件的制造方法 [P].

佐藤道雄 ;

日野高志 ;

中谷仁 .

中国专利 :CN104364887A ,2015-02-18

[8]

用于等离子体处理腔室的等离子体屏 [P].

M·T·尼科尔斯 ;

I·尤瑟夫 ;

J·A·奥马利三世 ;

R·丁德萨 ;

S·E·巴巴扬 .

中国专利 :CN109643630A ,2019-04-16

[9]

等离子体处理腔室及用于等离子体处理腔室的环 [P].

艾伦·L·丹布拉 ;

舍什拉伊·L·图尔什巴瓦勒 .

中国专利 :CN208908212U ,2019-05-28

[10]

等离子体处理腔室及用于等离子体处理腔室的环 [P].

艾伦·L·丹布拉 ;

舍什拉伊·L·图尔什巴瓦勒 .

中国专利 :CN207637742U ,2018-07-20

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