用于等离子体处理室部件的密封剂涂层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510657242.6

申请日：

2020-06-10

公开(公告)号：

CN120854248A

公开(公告)日：

2025-10-28

发明(设计)人：

本杰明·菲利普·海涅达雷尔·埃利希罗宾·科什伊斯洛博丹·米特罗维奇约翰·多尔蒂

申请人：

朗姆研究公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

B05D7/24 B05D7/14 B05D1/00 B05D3/14

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

李献忠;张华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-28	公开	公开
2025-11-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01J 37/32申请日:20200610

共 50 条

[1]

用于等离子体处理室部件的密封剂涂层 [P].

本杰明·菲利普·海涅 ;

达雷尔·埃利希 ;

罗宾·科什伊 ;

斯洛博丹·米特罗维奇 ;

约翰·多尔蒂 .

中国专利 :CN113966544A ,2022-01-21

[2]

用于等离子体处理室部件的钇铝涂层 [P].

许临 ;

大卫·约瑟夫·韦策尔 ;

萨蒂什·斯里尼瓦桑 ;

罗宾·科什伊 ;

约翰·迈克尔·克恩斯 ;

约翰·多尔蒂 .

中国专利 :CN115003857A ,2022-09-02

[3]

用于等离子体处理室部件的氧化钇涂层 [P].

耶利米亚·迈克尔·德德里克 ;

萨蒂什·斯里尼瓦桑 ;

许临 ;

约翰·多尔蒂 .

美国专利 :CN119278496A ,2025-01-07

[4]

用于等离子体处理腔室的等离子体屏 [P].

M·T·尼科尔斯 ;

I·尤瑟夫 ;

J·A·奥马利三世 ;

R·丁德萨 ;

S·E·巴巴扬 .

中国专利 :CN109643630A ,2019-04-16

[5]

等离子体处理和将粘结剂/密封剂分配到部件的设备和方法 [P].

帕特里克·弗林 ;

詹姆士·S·泰勒 ;

凯文·斯顿夫 .

中国专利 :CN101111320A ,2008-01-23

[6]

等离子体处理腔室及用于等离子体处理腔室的环 [P].

艾伦·L·丹布拉 ;

舍什拉伊·L·图尔什巴瓦勒 .

中国专利 :CN208908212U ,2019-05-28

[7]

等离子体处理腔室及用于等离子体处理腔室的环 [P].

艾伦·L·丹布拉 ;

舍什拉伊·L·图尔什巴瓦勒 .

中国专利 :CN207637742U ,2018-07-20

[8]

用于等离子体处理的装置和等离子体处理腔室 [P].

T·Q·特兰 ;

S·朴 ;

Z·翁 ;

D·卢博米尔斯基 .

中国专利 :CN206225317U ,2017-06-06

[9]

等离子体处理室 [P].

辻本宏 .

中国专利 :CN100440427C ,2007-04-04

[10]

等离子体处理室 [P].

许临 ;

托马斯·R·史蒂文森 ;

格雷森·福特 ;

萨蒂什·斯里尼瓦桑 .

中国专利 :CN112805805A ,2021-05-14

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