光刻用形成防反射膜的组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200380105388.1

申请日：

2003-10-08

公开(公告)号：

CN1723418A

公开(公告)日：

2006-01-18

发明(设计)人：

岸冈高广水沢贤一榎本智之坂本力丸中山圭介河村保夫

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

段承恩;田欣

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-01-18	公开	公开
2006-03-15	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-10-07	授权	授权

共 50 条

[1]

形成光刻用防反射膜的组合物 [P].

竹井敏 ;

安见由章 ;

水泽贤一 .

中国专利 :CN1564968A ,2005-01-12

[2]

形成光刻用防反射膜的组合物 [P].

岸冈高广 ;

荒濑慎哉 ;

水泽贤一 .

中国专利 :CN1502062A ,2004-06-02

[3]

形成防反射膜的组合物 [P].

坂本力丸 ;

水泽贤一 .

中国专利 :CN1636166A ,2005-07-06

[4]

形成光刻用防反射膜的组合物 [P].

荒濑慎哉 ;

岸冈高广 ;

水泽贤一 .

中国专利 :CN100362430C ,2004-11-10

[5]

含磺酸酯的形成光刻用防反射膜的组合物 [P].

岸冈高广 ;

畑中真 ;

木村茂雄 .

中国专利 :CN101052919A ,2007-10-10

[6]

含有硫原子的形成光刻用防反射膜的组合物 [P].

榎本智之 ;

广井佳臣 ;

中山圭介 .

中国专利 :CN101040220A ,2007-09-19

[7]

形成防反射膜的组合物 [P].

岸冈高广 ;

荒濑慎哉 ;

水沢贤一 ;

中山圭介 .

中国专利 :CN100514188C ,2005-09-14

[8]

防反射膜形成用涂料组合物及形成有防反射膜的物品 [P].

米田贵重 ;

河合洋平 .

中国专利 :CN101523242A ,2009-09-02

[9]

含有具有乙烯二羰基结构的聚合物的形成光刻用防反射膜的组合物 [P].

坂本力丸 .

中国专利 :CN101160549A ,2008-04-09

[10]

含有聚酰胺酸的形成防反射膜的组合物 [P].

畑中真 ;

榎本智之 ;

木村茂雄 .

中国专利 :CN1842744A ,2006-10-04

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